[发明专利]表盘状态识别方法及装置、可读存储介质和电子设备有效
申请号: | 201910407601.7 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN110135420B | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 马欣 | 申请(专利权)人: | 北京灵汐科技有限公司 |
主分类号: | G06K9/32 | 分类号: | G06K9/32;G06K9/34 |
代理公司: | 北京睿派知识产权代理事务所(普通合伙) 11597 | 代理人: | 刘锋 |
地址: | 100080 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表盘 状态 识别 方法 装置 可读 存储 介质 电子设备 | ||
1.一种表盘状态识别方法,其特征在于,包括:
获取表盘图像;
确定指针顶点位置;
确定所述表盘的第一区域边界线上的第一参考点位置和第二参考点位置;
根据所述指针顶点位置和所述第一参考点位置、所述第二参考点位置确定所述表盘的状态;
其中,所述确定表盘的第一区域边界线上的第一参考点位置和第二参考点位置包括:
提取包含第一区域的表盘图像掩膜,将所述包含第一区域的表盘图像掩膜转换为二值图像;
通过计算所述二值图像的非零区域筛选面积最大的区域轮廓,得到表盘第一区域掩膜图;
确定表盘第一区域重心点和所述二值图像的中心点,在经过所述重心点和所述中心点连接的线段中点且垂直于所述线段的直线上确定第一对照点和第二对照点,所述第一对照点和所述第二对照点到所述线段的距离相等;
分别计算所述第一区域轮廓上的点到所述第一对照点和所述第二对照点的距离,选择与所述第一对照点距离最远的点为所述第一参考点,与所述第二对照点距离最远的点为所述第二参考点。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述指针顶点位置和所述第一参考点位置、所述第二参考点位置确定所述表盘的状态包括:
根据所述指针顶点位置和所述第一参考点位置、所述第二参考点位置确定第一角度值、第二角度值和第三角度值,所述第一角度值用于表示所述指针顶点到表盘中心的连线和预定参考线的夹角,所述第二角度值用于表示所述第一参考点到所述表盘中心的连线和所述预定参考线的夹角,所述第三角度值用于表示所述第二参考点到所述表盘中心的连线和所述预定参考线的夹角;
根据所述第一角度值、第二角度值和第三角度值确定所述表盘的状态。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取表盘图像包括:
提取所述表盘图像中的表盘区域;
将所述表盘区域中的表盘形状校正为设定形状。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述表盘形状校正方法为仿射变换。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定指针顶点位置包括:
提取包含指针的表盘图像掩膜,将所述包含指针的表盘图像掩膜转换为二值图像;
通过计算所述二值图像的非零区域筛选面积最大的区域轮廓,得到指针区域掩膜图;
计算所述指针轮廓各点与所述二值图像中心点的距离,确定与所述二值图像中心点距离最远的点为所述指针顶点。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述确定指针顶点位置还包括:
响应于所述指针顶点与所述二值图像中心点的距离超出设定的第一距离范围,提示错误。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定表盘的第一区域边界线上的第一参考点位置和第二参考点位置还包括:
响应于以下至少一种情况,提示错误:
所述第一参考点与所述第一对照点的距离超出第二距离范围、所述第二参考点与所述第二对照点的距离超出第三距离范围、所述第一参考点与所述第二参考点之间的距离超出第四距离范围、所述第一参考点与所述图像中心点连线和所述第二参考点与所述二值图像中心点连线的夹角角度超出角度范围。
8.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述确定第一角度值、第二角度值和第三角度值包括:
确定表盘中心点分别与所述指针顶点、第一参考点和第二参考点的第一连接线、第二连接线和第三连接线;
通过以所述表盘中心点为原点,以经过所述表盘中心点的所述预定 参考线为半径沿同一方向划至所述第一连接线、所述第二连接线或所述第三连接线确定所述第一角度值、所述第二角度值和所述第三角度值。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述根据第一角度值、第二角度值和第三角度值确定表盘状态包括:
响应于所述第一角度值在第二角度值和第三角度值形成的范围外,确定所述指针位于第一区域外。
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