[发明专利]复合型锰氧化合物薄膜及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种复合型锰氧化合物薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将锰氧化合物靶材和能量密度贡献主体元素靶材在惰性气氛下进行共溅射处理，在基体上生长复合型锰氧化合物薄膜。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述能量密度贡献主体元素靶材包括硅、锡、钛、钒、铝、金、银、铜、钼、钴中的至少一种单质靶或合金靶或硅、锡、钛、钒、铝、金、银、铜、钼、钴中的至少一种化合物靶；和/或

所述共溅射处理的溅射功率满足：溅射所述锰氧化合物靶材功率与溅射能量密度贡献主体元素靶材的功率比为4:1～1:4。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述共溅射处理过程中，所述基体的温度控制为200℃-700℃；和/或

所述溅射气氛为氮气、氩气、氨气中的至少一种与氧气的混合气体气氛。

4.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于：所述锰氧化合物靶材是按照如下方法制备：

将锰氧化合物于有机粘结剂按比例混合处理，再于40-60MPa/min的升压速度下将压力升到设计压力进行模压处理，后按照10-30MPa/min的速度泄压，得到素坯；将所述素坯先按照1-5℃/min的条件下升到600-800℃，保温3-6h；再按照1-5℃/min的条件升至800-1200℃进行烧结处理；

和/或

将锰氧化合物粉体铺设在基板表面上，然后对所述锰氧化合物粉体进行干压处理；

和/或

所述锰氧化合物靶材为一氧化锰、二氧化锰、三氧化二锰、锰酸锂、高锰酸锂、富锂锰酸锂中的至少一种。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于：所述干压处理为采用5吨单向压力对所述锰氧化合物粉体进行直接施压处理。

6.如权利要求1-3、5任一项所述的制备方法，其特征在于：所述基体为化学电源负极集流体。

7.一种复合型锰氧化合物薄膜，其特征在于：所述复合型锰氧化合物薄膜是按照权利要求1-6任一项所述的制备方法生长形成。

8.一种电极片，包括集流体，其特征在于：在所述集流体表面上还结合有复合型锰氧化合物薄膜，所述复合型锰氧化合物薄膜是按照权利要求1-5任一项所述的制备方法在所述集流体上生长形成。

9.如权利要求8所述的电极片，其特征在于：所述复合型锰氧化合物薄膜的厚度为0.1-10μm。

10.如权利要求8或9所述的电极片在锂离子电池或超级电容器中的应用。