[发明专利]基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910410490.5 申请日: 2019-05-16
公开(公告)号: CN110227968B 公开(公告)日: 2020-08-21
发明(设计)人: 唐才学;徐凯源;温圣林;颜浩;张远航;嵇保建;王翔峰;石琦凯;邓燕;王健 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G01B11/24;B24B1/00;B24B13/00
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 曹鹏飞
地址: 621900*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 基于 变换 流变 去除 函数 寄生 条纹 消除 方法 装置
【权利要求书】:

1.基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法,其特征在于,包括:

获取含有寄生条纹的干涉仪采斑测量面形数据矩阵f1(x,y);

提取所述面形数据矩阵f1(x,y)中的局部数据,所述局部数据为:含有寄生条纹,且不含有去除函数形状;计算所述寄生条纹的空间周期T;

采用sym5小波对所述面形数据矩阵f1(x,y)进行多级分解,分解级数为N,得到3N+1个系数矩阵数据;所述N根据所述空间周期T计算获得;

分析3N+1个所述系数矩阵数据,记录含有寄生条纹的系数矩阵为Sj;其中j=1~K,K为含有寄生条纹的系数矩阵的个数,且K≤3N+1;

对含有寄生条纹的系数矩阵Sj进行处理,消除其中的寄生条纹特征;

其中,对含有寄生条纹的系数矩阵Sj进行处理,消除其中的寄生条纹特征,包括:

根据寄生条纹特征和去除函数特征数值不连续及存在的强度差异,采用基于直方图统计,确定寄生条纹特征所在取值范围;

将所述系数矩阵Sj中数值在所述取值范围内的数据置零,消除其中的寄生条纹特征。

2.如权利要求1所述的消除方法,其特征在于,还包括:

对处理后的系数矩阵Sj进行重构,重构时小波基函数为sym5,分解层数为N,得到消除寄生条纹的面形数据矩阵f2(x,y)。

3.如权利要求1所述的消除方法,其特征在于,所述N根据所述空间周期T计算获得,包括:

计算多级小波分解层数N,计算公式如下:

其中,N取满足条件下最小整数,T表示寄生条纹的空间周期,pix表示像素尺寸。

4.基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除装置,其特征在于,所述装置包括:

获取模块,用于获取含有寄生条纹的干涉仪采斑测量面形数据矩阵f1(x,y);

计算模块,用于提取所述面形数据矩阵f1(x,y)中的局部数据,所述局部数据为:含有寄生条纹,且不含有去除函数形状;计算所述寄生条纹的空间周期T;

分解模块,用于采用sym5小波对所述面形数据矩阵f1(x,y)进行多级分解,分解级数为N,得到3N+1个系数矩阵数据;所述N根据所述空间周期T计算获得;

记录模块,用于分析3N+1个所述系数矩阵数据,记录含有寄生条纹的系数矩阵为Sj;其中j=1~K,K为含有寄生条纹的系数矩阵的个数,且K≤3N+1;

消除模块,用于对含有寄生条纹的系数矩阵Sj进行处理,消除其中的寄生条纹特征;

其中,所述消除模块,包括:

确定子模块,用于根据寄生条纹特征和去除函数特征数值不连续及存在的强度差异,采用基于直方图统计,确定寄生条纹特征所在取值范围;

消除子模块,用于将所述系数矩阵Sj中数值在所述取值范围内的数据置零,消除其中的寄生条纹特征。

5.如权利要求4所述的消除装置,其特征在于,所述装置还包括:

重构模块,用于对消除模块处理后的系数矩阵Sj进行重构,重构时小波基函数为sym5,分解层数为N,得到消除寄生条纹的面形数据矩阵f2(x,y)。

6.如权利要求4所述的消除装置,其特征在于,所述计算模块中,具体用于计算多级小波分解层数N,计算公式如下:

其中,N取满足条件下最小整数,T表示寄生条纹的空间周期,pix表示像素尺寸。

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