[发明专利]双靶向化合物、其制备方法及应用

权利要求书

1.具有下式所示结构的化合物：

式中，

X^-为阴离子；

R¹-R⁸各自独立为H或C_1-6烷基；

R²¹为H或C_1-6烷基；

n³为0-3的整数；

L 的结构如下式所示：

，

式中，n¹和n²各自独立选自1-12的整数，n⁴和n⁵各自独立选自0-12的整数，T选自O、S和NH；-(CH₂)n¹-*中的*表示与所述甲川花菁染料结构连接的位置，另一头的*表示与R连接的位置；

R为衍生自下式4或6、并缺少了式4和6中的炔基的基团，其中，R经由式4或6中缺少了乙炔基的苯基与L连接：

，。

2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，R¹-R⁸全部为H。

3.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，n¹和n²各自独立选自1-6的整数。

4.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，n⁴和n⁵各自独立选自0-6的整数。

5.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，n⁴为0。

6.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述阴离子选自：F^-、Cl^-、Br^-、I^-、NO₃^-、SO₄^2-、PO₄^3-、HPO₄^2-、H₂PO₄^-、CO₃^2-、HCO₃^-、SO₃^2-、HSO₃^-、CH₃COO^-和CH₃SO₃^-。

7.具有下式所示的结构的化合物：

、、

、、

、、

或，

其中，

X^-为阴离子；

R¹-R⁸各自独立为H或C_1-6烷基；

R²¹为H或C_1-6烷基；

n³为0-3的整数；

n¹和n²各自独立选自1-12的整数；

n⁴和n⁵各自独立选自0-12的整数；

T选自O、S和NH；

R⁹-R²⁰各自独立选自H、卤素、C_1-4烷基、C_2-4烯基、和C_2-4炔基。

8.如权利要求7所述的化合物，其特征在于，R⁹-R²⁰各自独立选自H和C_1-4烷基。

9.如权利要求7所述的化合物，其特征在于，R⁹-R²⁰全部为H。