[发明专利]一种银基LOW-E膜面夹胶玻璃及制备方法

说明书

本发明提供了一种银基LOW‑E膜面夹胶玻璃及制备方法，属于磁控溅射镀膜技术领域；本发明中，通过对夹胶玻璃的结构、镀膜层及磁控溅射工艺的优化设计，使生产出的LOW‑E夹胶玻璃镀膜层包裹于两片玻璃基片之间，从而避免镀膜层与空气接触，进而使其无需中空而直接使用；一种银基LOW‑E膜面夹胶玻璃，包括Low‑E玻璃单片、胶片和普通玻璃单片，Low‑E玻璃单片包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层自玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnAl层,第三层为Ag层，第四层为NiCr层,第五层为AZO层,第六层为SiNx层,第七层为ZnAl层，第八层为Ag层，第九层为NiCr层，第十层为AZO层，第十一层为SiNx层。本发明玻璃具有透过率高、耐氧化、且无需中空可单片使用等优点。

技术领域

本发明属于夹胶玻璃加工技术领域，具体涉及一种银基LOW-E膜面夹胶玻璃及制备方法。

背景技术

玻璃是重要的建筑材料，随着对建筑物装饰性要求的不断提高，玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。然而，当今人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题。这就使得镀膜玻璃家族中的新贵--Low-E玻璃脱颖而出，成为人们关注的焦点。

Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性，而银基Low-E玻璃由于其品种丰富性能突出而成为LOW-E玻璃中的佼佼者，但由于银的易氧化特性使得目前市场上的各银基LOW-E玻璃均不能单片使用而必须制成中空玻璃，工序繁多，生产效率低，生产成本高。

发明内容

本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种银基LOW-E膜面夹胶玻璃及制备方法，本发明所要解决的技术问题是如何通过对夹胶玻璃的结构、镀膜层及磁控溅射工艺的优化设计，使生产出的LOW-E夹胶玻璃镀膜层包裹于两片玻璃基片之间，从而避免镀膜层与空气接触，进而使其无需中空而直接使用。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种银基LOW-E膜面夹胶玻璃，其特征在于，本夹胶玻璃包括Low-E玻璃单片、胶片和普通玻璃单片，所述Low-E玻璃单片包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层，其中第一层为SiN_x层，第二层为ZnAl层,第三层为Ag层，第四层为NiCr层,第五层为AZO层,第六层为SiN_x层,第七层为ZnAl层，第八层为Ag层，第九层为NiCr层，第十层为AZO层，第十一层为SiNx层。

一种银基LOW-E膜面夹胶玻璃，其特征在于，所述第一层和第二层为第一电介质组合层，所述第三层为低辐射功能层，所述第四层和第五层为晶床介质层，所述第六层和第七层为第二电介质组合层，所述第八层为低辐射功能层,所述第九层为晶床介质，所述第十层和第十一层为阻挡保护层。

一种银基LOW-E膜面夹胶玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：

(1)、Low-E玻璃原片的制备即磁控溅射镀膜层：

A、磁控溅射第一层：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为20～28nm；

B、磁控溅射第二层：

靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为17～19nm；

C、磁控溅射第三层：