[发明专利]一种应用于双光束激光的光刻胶

说明书

本发明公开了一种应用于双光束激光的光刻胶，其特征在于，包括光引发剂、光抑制剂和单体，以各组分占光刻胶的摩尔量计，光引发剂为0.1％～5％，光抑制剂为0.1％～2％，单体为93％～99.8％。本发明通过采用IRGACURE类光引发剂和秋兰姆类的光抑制剂，使所制光刻胶呈无色透明状，避免了现有技术中光刻胶颜色存在不必要光吸收的问题；同时，在双光束激光对该光刻胶进行照射时，避免了光引发剂和光抑制剂交叉吸收的问题，使双光束激光直写的分辨率得到提高。

技术领域

本发明涉及光刻技术，特别是一种应用于双光束激光的光刻胶。

背景技术

在大规模集成电路的制造过程中，光刻技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，决定这芯片的最小特征尺寸，占芯片制造时间的40％-50％。市场对半导体产品小型化，功能多样化的要求越来越高，这就要求光刻过程的精细程度不断提高，而精细程度具体主要体现在两个方面：第一是所制造图案和结构的特征尺寸，比如所制造图案和结构中线的线径；第二是所制造图案和结构的特征密度，比如所制造图案和结构中两条物理上分离的直线的中心距离。

在光刻工艺流程中，光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料。文献中报道过应用于双光束的光刻胶，常使用的光引发剂是BDCC混合试剂，这是一种合成后呈暗砖红色的物质，它的存在使得配置好的光刻胶也是呈现砖红色；但对于光刻工艺来说，颜色的存在会使得溶液存在不必要的光吸收，给制造过程带来麻烦。此外，文献中采用的制造光是800nm的飞秒激光，引发剂通过双光子吸收实现光刻胶的聚合，由光抑制剂二硫化四乙基秋兰姆吸收了 375nm的光，从而实现抑制光刻胶聚合；但是引发剂在375nm波段仍存在不可忽略的吸收，即现有技术方案存在交叉吸收的现象，这样会影响双光束激光直写的特征尺寸和分辨率。故为解决上述现有光刻胶在光刻过程中存在的问题，需要提出一种新的光刻胶。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种应用于双光束激光的光刻胶，用于解决现有技术中光刻胶具有颜色并存在交叉吸收的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种应用于双光束激光的光刻胶，其特征在于，包括光引发剂、光抑制剂和单体，以各组分占光刻胶的摩尔量计，光引发剂为0.1％～5％，光抑制剂为0.1％～2％，单体为93％～99.8％。

优选的，光引发剂包括IRGACURE-250、IRGACURE-907、IRGACURE-184、 IRGACURE-369、IRGACURE-819、IRGACURE-784中的任意一种。

优选的，光抑制剂为秋兰姆类的一种或多种的混合物。

优选的，单体包括1，6-己二醇二丙烯酸、季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯中的一种或多种的混合物。

优选的，采用制造光和抑制光组成的双光束激光对应用于双光束激光的光刻胶进行光刻。

优选的，制造光波长为470～570nm，抑制光波长为350～390nm。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过采用 IRGACURE类光引发剂和秋兰姆类的光抑制剂，使所制光刻胶呈无色透明状，避免了现有技术中光刻胶颜色存在不必要光吸收的问题；同时，在双光束激光对该光刻胶进行照射时，避免了光引发剂和光抑制剂交叉吸收的问题，使双光束激光直写的分辨率得到提高。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本发明保护的范围。