[发明专利]一种蚀刻装置

权利要求书

1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括：

蚀刻室，所述蚀刻室内容纳有蚀刻液；所述蚀刻室的相对的两个侧壁上分别设置有入口和出口，所述出口的位置与所述入口的位置对应；所述出口和所述入口处均设置有阻挡部，所述阻挡部包括第一子阻挡部和第二子阻挡部，所述第一子阻挡部位于所述出口或所述入口的下方，所述第二子阻挡部位于所述出口或所述入口的上方，其中所述蚀刻室内设置有基板；

喷淋部，设于所述蚀刻室的上方；所述喷淋部用于向所述基板喷淋蚀刻液；

至少一液刀，设于所述喷淋部和所述基板之间；所述液刀用于向所述基板涂布蚀刻液；

传输装置，设于所述基板的下方，所述传输装置包括至少一第一滚轮和至少一第二滚轮，所述第一滚轮的直径大于所述第二滚轮的直径，所述第一滚轮的顶部的初始高度与所述第一子阻挡部的顶部的初始高度相等，

其中所述第二滚轮的顶部的初始高度小于所述第一滚轮的顶部的初始高度，所述第一滚轮可升降。

2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述第二滚轮的顶部的初始高度与所述第一子阻挡部的初始高度之间的差值的范围为0.1cm~10cm。

3.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，当所述蚀刻装置处于第一工作模式时，所述第一滚轮带动所述基板在水平方向上往返移动。

4.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，当所述蚀刻装置处于第二工作模式时，所述第二滚轮带动所述基板在水平方向上往返移动。

5.根据权利要求4所述的蚀刻装置，其特征在于，当所述蚀刻装置处于所述第二工作模式时，所述第一子阻挡部与对应侧的所述第二子阻挡部抵接。

6.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，初始状态下，所述第一子阻挡部和对应侧的所述第二子阻挡部之间间隔设置。

7.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括第一控制模块和第二控制模块，所述第一控制模块用于控制所述第一滚轮转动，所述第二控制模块用于控制所述第二滚轮转动。

8.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置包括两个液刀，两个所述液刀分别位于所述基板的相对两侧。

9.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述喷淋部包括喷淋管和设置在所述喷淋管下方的多个喷嘴。