[发明专利]用于全固态锂离子电池电解质膜的制备方法及电解质膜有效
申请号: | 201910418677.X | 申请日: | 2019-05-20 |
公开(公告)号: | CN110120547B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 张渊君 | 申请(专利权)人: | 河南固锂电技术有限公司 |
主分类号: | H01M10/0562 | 分类号: | H01M10/0562;H01M10/0525;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 张玺 |
地址: | 453000 河南省新乡市红旗区新*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 固态 锂离子电池 电解 质膜 制备 方法 | ||
1.一种用于全固态锂离子电池电解质膜的制备方法,其特征在于:所述制备方法包括如下步骤:
提供Si衬底;
制备Li2O和TiO2的混合物靶材;
在所述Li2O和TiO2的混合物靶材上贴敷La2O3片,利用磁控溅射,在所述Si上沉积LiLaTiO层;
以Li3PO4为靶材,利用反应磁控溅射,在所述LiLaTiO层上沉积第一LiPON层;
以Li3PO4为靶材,利用反应磁控溅射,在所述第一LiPON层上沉积第二LiPON层;
制备Li3PO4与Si3N4的第一混合物靶材;
以Li3PO4与Si3N4的第一混合物靶材,利用磁控溅射,在所述第二LiPON层上沉积第一LiSiPON层;
制备Li3PO4与Si3N4的第二混合物靶材;
以Li3PO4与Si3N4的第二混合物靶材,利用磁控溅射,在所述第一LiSiPON层上沉积第二LiSiPON层,
制备Li2O和TiO2的混合物靶材包括如下步骤:
提供Li2O和TiO2原料;
将所述Li2O和TiO2原料混合,并进行合金化球磨,得到合金化粉末,其中,所述合金化球磨的工艺为:球磨机转速为1000-1200rpm,球磨时间为80-90h,并且其中,所述Li2O与所述TiO2的摩尔比为1:(4-6);
将所述合金化粉末进行热压烧结,其中,所述热压烧结的工艺为:烧结温度为1100-1200℃,烧结压力为100-200MPa,烧结时间为3-4h,
其中,所述La2O3片的厚度为100-200微米,所述La2O3片的面积与所述Li2O和TiO2的混合物靶材面积之比为1:(8-13);
所述LiLaTiO层的厚度为100-200nm,利用磁控溅射,在所述Si上沉积LiLaTiO层的具体工艺为:通入氩气,溅射气压为2-3Pa,溅射电流为130-150mA,溅射电压为800-900V,衬底温度为650-750℃,
所述第一LiPON层的厚度为50-100nm,利用反应磁控溅射,在所述LiLaTiO层上沉积第一LiPON层的具体工艺为:通入氮气和氩气,所述氮气和氩气的流量比为(0.5-1):1,溅射气压为4-5Pa,溅射电流为100-120mA,溅射电压为300-400V,衬底温度为300-400℃,
所述第二LiPON层的厚度为100-150nm,利用反应磁控溅射,在所述第一LiPON层上沉积第二LiPON层的具体工艺为:通入氮气和氩气,所述氮气和氩气的流量比为(2-4):1,溅射气压为5-8Pa,溅射电流为200-250mA,溅射电压为500-600V,衬底温度为500-600℃,
制备Li3PO4与Si3N4的第一混合物靶材包括如下步骤:
提供Li3PO4与Si3N4原料;
将所述Li3PO4与Si3N4原料混合,并进行第二合金化球磨,得到第二合金化粉末,其中,所述第二合金化球磨的工艺为:球磨机转速为1300-1500rpm,球磨时间为100-120h,并且其中,所述Li3PO4与Si3N4的摩尔比为1:(0.3-0.5);以及
将所述合金化粉末进行煅烧,其中,所述煅烧的工艺为:煅烧温度为1400-1500℃,煅烧压力为50-100MPa,煅烧时间为3-4h,
所述第一LiSiPON层的厚度为50-100nm,利用磁控溅射,在所述第二LiPON层上沉积第一LiSiPON层的具体工艺为:通入氮气和氩气,所述氮气和氩气的流量比为(1-1.5):1,溅射气压为5-8Pa,溅射电流为150-200mA,溅射电压为400-450V,衬底温度为300-400℃,
制备Li3PO4与Si3N4的第二混合物靶材包括如下步骤:
提供Li3PO4与Si3N4原料;
将所述Li3PO4与Si3N4原料混合,并进行第三合金化球磨,得到第三合金化粉末,其中,所述第三合金化球磨的工艺为:球磨机转速为1300-1500rpm,球磨时间为150-200h,并且其中,所述Li3PO4与Si3N4的摩尔比为1:(0.6-0.8);以及
将所述合金化粉末进行煅烧,其中,所述煅烧的工艺为:煅烧温度为1500-1550℃,煅烧压力为100-150MPa,煅烧时间为3-4h,
所述第一LiSiPON层的厚度为150-200nm,利用磁控溅射,在所述第一LiSiPON层上沉积第二LiSiPON层的具体工艺为:通入氮气和氩气,所述氮气和氩气的流量比为(2-3):1,溅射气压为6-9Pa,溅射电流为250-300mA,溅射电压为500-550V,衬底温度为500-600℃。
2.一种用于全固态锂离子电池的电解质膜,其特征在于:所述用于全固态锂离子电池的电解质膜是由如权利要求1所述的制备方法制备的。
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