[发明专利]一种高透高雾光学预涂膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高透高雾光学预涂膜及其制备方法，其特征在于：所述高透高雾光学预涂膜包括PET基材，基材厚度25-300μm，基材为ABA三层共挤结构，所述基材B层厚度5-60μm；所述基材B层中添加无机或有机粒子；基材两面在线预涂一层聚酯类涂层，所述聚酯类预涂层含有无机粒子。

2.根据权利要求1所述的一种高透高雾光学预涂膜，其特征在于，所述基材B层添加粒子为SiO2、BaSO4、PMMA中的一种或两种的组合；所述粒子粒径为2-8μm。

3.根据权利要求1所述的一种高透高雾光学预涂膜，其特征在于，所述基材两面预涂聚酯类涂层包含无机粒子，所述无机粒子为SiO2、BaSO4中的一种或两种组合，所述无机粒子直径为0.1-0.4μm。

4.根据权利要求1所述一种高透高雾光学预涂膜，其特征在于所述预涂层厚度为0.05-0.5μm。

5.制备如权利要求1所述一种高透高雾光学预涂膜，其特征在于所述基材采用两台挤出机ABA三层共挤制备，预涂层制备方法为在基材制备过程中，纵拉之后横拉之前利用线棒或凹版辊涂布方式双面涂布一层水性聚酯涂层。