[发明专利]X射线源扫描参数调节方法、装置、计算机设备及可读存储介质在审
| 申请号： | 201910425379.3 | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110215225A | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 祝国平;董斌;张铁山;吴景林;褚旭 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 雷志刚 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 预设条件 能量周期 扫描参数 阳极靶 旋转周期 盘旋 可读存储介质 计算机设备 整数倍 靶盘 拍频 变形 | ||
1.一种X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述方法包括：
获取X射线源扫描参数，所述X射线源扫描参数包括靶盘的旋转周期及X射线源的能量周期；
确定所述旋转周期与能量周期的比值；
若所述比值不满足预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述预设条件；所述预设条件为第一预设条件或第二预设条件，所述第一预设条件为所述旋转周期与能量周期的比值不等于整数，所述第二预设条件为所述旋转周期与能量周期的比值等于半整数。
2.如权利要求1所述的X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述若所述比值不满足预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述预设条件包括：所述预设条件为第一预设条件；
若所述比值不满足第一预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述第一预设条件。
3.如权利要求2所述的X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述若所述比值不满足第一预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述第一预设条件包括：
若所述比值不满足第一预设条件，则调节所述靶盘的旋转周期及/或X射线源的能量周期，以使所述比值满足所述第一预设条件。
4.如权利要求1所述的X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述若所述比值不满足预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述预设条件包括：所述预设条件为第二预设条件；
若所述比值不满足第二预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述第二预设条件。
5.如权利要求4所述的X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述若所述比值不满足第二预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述第二预设条件：
若所述比值不满足第二预设条件，则调节所述靶盘的旋转周期及/或X射线源的能量周期，以使所述比值满足所述第二预设条件。
6.如权利要求1所述的X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述方法还包括：
根据调节后的旋转周期及能量周期进行成像扫描。
7.如权利要求1所述的X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述方法包括：
若所述比值满足预设条件，则根据当前的X射线源扫描参数进行成像扫描。
8.一种X射线源参数调节装置，其特征在于，所述装置包括：
获取模块，用于获取X射线源扫描参数；
确定模块，用于确定所述旋转周期与能量周期的比值关系式；
调节模块，用于在所述比值关系式不满足预设条件时，调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值关系式满足所述预设条件。
9.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至7中任一项所述方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7中任一项所述的方法的步骤。
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