[发明专利]一种用于匣钵的碳化硅涂层及该匣钵的制备方法

权利要求书

1.一种用于匣钵的碳化硅涂层，其特征在于，按质量分数计，该碳化硅涂层包括以下原料：

粒径为0.1～1.5μm的碳化硅粉末10～20％、粒径为0.01～0.05mm的碳化硅粉末10～20％、粒径为0.1～0.5mm的碳化硅粉末10～20％、粒径为0.01～0.1μm的废弃莫来石匣钵粉末10～20％、粒径为0.01～0.1mm的废弃莫来石匣钵粉末10～20％、粒径为1～10nm的氧化铝粉末10～20％、水性有机硅树脂10～20％、去离子水5～10％、聚乙烯醇1～5％。

2.根据权利要求1所述的一种用于匣钵的碳化硅涂层，其特征在于，所述水性有机硅树脂为聚甲基硅树脂、聚乙基硅树脂中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的一种用于匣钵的碳化硅涂层，其特征在于，按质量分数计，该碳化硅涂层包括以下原料：

粒径为0.1～1.5μm的碳化硅粉末15％、粒径为0.01～0.05mm的碳化硅粉末15％、粒径为0.1～0.5mm的碳化硅粉末15％、粒径为0.01～0.1μm的废弃莫来石匣钵粉末15％、粒径为0.01～0.1mm的废弃莫来石匣钵粉末10％、粒径为1～10nm的氧化铝粉末10％、水性有机硅树脂10％、去离子水5％、聚乙烯醇5％。

4.一种制备具有如权利要求1～3任意一项所述的用于匣钵的碳化硅涂层的匣钵的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将废弃莫来石匣钵进行机械破除粉碎，并筛分出粒径为0.01～0.1μm的废弃莫来石匣钵粉末和粒径为0.01～0.1mm的废弃莫来石匣钵粉末；

步骤二、按质量分数计，称取10～20％的粒径为0.1～1.5μm的碳化硅粉末、10～20％的粒径为0.01～0.05mm的碳化硅粉末、10～20％的粒径为0.1～0.5mm的碳化硅粉末、10～20％的粒径为0.01～0.1μm的废弃莫来石匣钵粉末、10～20％的粒径为0.01～0.1mm的废弃莫来石匣钵粉末、10～20％的粒径为1～10nm的氧化铝粉末、10～20％的水性有机硅树脂、5～10％的去离子水及1～5％的聚乙烯醇，将称取的各原料放入搅拌机中混合均匀，得到碳化硅涂层；

步骤三、使用毛刷将所述碳化硅涂层涂敷在烧结好的匣钵坯体的内表面，或者将所述碳化硅涂层倒入所述烧结好的匣钵坯体，振动该匣钵坯体，使所述碳化硅涂层均匀涂敷在该匣钵坯体的内表面；

步骤四、将涂敷有碳化硅涂层的匣钵坯体静置自然晾干，然后转移至烘房中烘干；

步骤五、将步骤三处理后的匣钵坯体放入高温窑中进行烧成，出窑后静置冷却至室温，即得到具有碳化硅涂层的匣钵。

5.根据权利要求4所述的一种具有碳化硅涂层的匣钵的制备方法，其特征在于，所述步骤四中，烘房的温度为90～100℃，烘干时间为10～15h。

6.根据权利要求4所述的一种具有碳化硅涂层的匣钵的制备方法，其特征在于，所述步骤五中，首先将高温窑的温度以10℃/min的升温速度升温至200℃，并在200℃的温度下保温0.5h；然后以20℃/min的升温速度升温至1300～1500℃，并在1300～1500℃的温度下保温2～3h。