[发明专利]彩膜曝光机

说明书

本发明提供一种彩膜曝光机，该彩膜曝光机包括承载机台、传送构件、异物检测构件、搬运构件、曝光构件、温度调控构件，承载机台用于承载彩膜基板，传送构件用于传送彩膜基板，异物检测构件用于检测彩膜基板上的异物，搬运构件从异物检测构件搬运彩膜基板到曝光构件，温度调控构件包括温控管道，温控管道至少设置在搬运构件设置区；在彩膜曝光机工作时，温度调控构件通过温控管道调控搬运构件处的温度，解决了现有技术存在搬运构件处的温度调节不佳的技术问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜曝光机。

背景技术

现有彩膜曝光机在对红色子像素和绿色子像素曝光时，因冷却基板的问题和内部空间的温度差异较大，易出现波动，导致产品偏移量变化较大，产品的良率降低。

所以，现有彩膜曝光机存在搬运构件处的温度调节不佳的技术问题，需要改进。

发明内容

本发明提供一种彩膜曝光机，用于解决现有彩膜曝光机存在搬运构件处的温度调节不佳的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种彩膜曝光机，其包括：

承载机台，用于承载彩膜基板；

传送构件，用于传送彩膜基板；

异物检测构件，用于检测彩膜基板上的异物；

搬运构件，从异物检测构件搬运彩膜基板到曝光构件；

曝光构件；

温度调控构件，包括温控管道，所述温控管道至少设置在搬运构件设置区。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述温度调控构件包括分别位于所述搬运构件两侧的第一温度调控构件和第二温度调控构件，所述第一温度调控构件为二级循环单元单流体控温系统。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第一温度调控构件的第一温控管道组件设置在搬运构件设置区，所述第二温度调控构件的第二温控管道组件未设置在搬运构件设置区。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第一温控管道组件至少包括两种类型的温控管道，所述两种类型的温控管道的流量不同。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第一温控管道组件至少包括两条温控管道，所述第一温控管道组件的温控管道的流量相同。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第一温度调控构件的第一温控管道组件未设置在搬运构件设置区，所述第二温度调控构件的第二温控管道组件设置在搬运构件设置区。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第二温控管道组件至少包括两种类型的温控管道，所述两种类型的温控管道的流量不同。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第二温控管道组件至少包括两条温控管道，所述第二温控管道组件的温控管道的流量相同。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第一温度调控构件的第一温控管道组件设置在搬运构件设置区，所述第二温度调控构件的第二温控管道组件设置在搬运构件设置区。

在本发明提供的彩膜曝光机中，所述第一温控管道组件和所述第二温控管道组件在所述搬运构件设置区呈交错设置。