[发明专利]一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺及其包在审

专利信息
申请号: 201910430910.6 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN110219103A 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 赵志东 申请(专利权)人: 赵志东
主分类号: D05B35/02 分类号: D05B35/02;A45F3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528403 广东省中*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 裁片 拼接 定位点 双定位 电脑软件 立体结构 立体形状 平面图片 双重定位 对齐 不规则 缝纫线 轨迹线 缝纫 加工 对准 图案 分割 应用
【权利要求书】:

1.一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于包括以下步骤:

把完整的图片或相片按裁片的形状与大小,分割设计在裁片上,其中,所述裁片至少包括二片,所有所述裁片可通过车缝拼接形成包;

在裁片上设定车缝轨迹线a,车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距为d;

在裁片上设定定位点b,其中,两裁片连接处的定位点线性距离要相同;

根据裁片上的车缝轨迹线a以及定位点b进行双重定位,对裁片进行车缝连接,以使得裁片表面图案准确连接形成完整图案;

其中,所述车缝轨迹线a与定位点b不重合。

2.根据权利要求1所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:所述车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距d=8mm。

3.根据权利要求1或2所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:所述车缝轨迹线a、定位点b以及裁片上图案的分割设计均可根据实际需要进行调整。

4.根据权利要求1或2所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:所述定位点可表示为圆点或十字。

5.根据权利要求1或2所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:根据裁片的需要,在裁片的首,尾,弯位,直角,多裁片连接处等设置定位点。

6.一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于包括:标示为A、B、C、D、E、F和G的裁片,其中,每个所述裁片上分割设计有完整图片或相片的一部分,每个所述裁片上设定有车缝轨迹线a,车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距为d,每个所述裁片上设定有定位点b,两裁片连接处的定位点线性距离相同,所述车缝轨迹线a与定位点b不重合,通过裁片上的车缝轨迹线a以及定位点b进行双重定位,对裁片进行车缝连接,以使得裁片表面图案准确连接形成完整图案,从而形成完整的包。

7.根据权利要求6所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于:所述车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距d=8mm。

8.根据权利要求6或7所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于:所述定位点可表示为圆点或十字。

9.根据权利要求7所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于:所述车缝轨迹线a、定位点b以及裁片上图案的分割设计均可根据实际需要进行调整。

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