[发明专利]一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺及其包在审
申请号: | 201910430910.6 | 申请日: | 2019-05-22 |
公开(公告)号: | CN110219103A | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 赵志东 | 申请(专利权)人: | 赵志东 |
主分类号: | D05B35/02 | 分类号: | D05B35/02;A45F3/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528403 广东省中*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 裁片 拼接 定位点 双定位 电脑软件 立体结构 立体形状 平面图片 双重定位 对齐 不规则 缝纫线 轨迹线 缝纫 加工 对准 图案 分割 应用 | ||
1.一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于包括以下步骤:
把完整的图片或相片按裁片的形状与大小,分割设计在裁片上,其中,所述裁片至少包括二片,所有所述裁片可通过车缝拼接形成包;
在裁片上设定车缝轨迹线a,车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距为d;
在裁片上设定定位点b,其中,两裁片连接处的定位点线性距离要相同;
根据裁片上的车缝轨迹线a以及定位点b进行双重定位,对裁片进行车缝连接,以使得裁片表面图案准确连接形成完整图案;
其中,所述车缝轨迹线a与定位点b不重合。
2.根据权利要求1所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:所述车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距d=8mm。
3.根据权利要求1或2所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:所述车缝轨迹线a、定位点b以及裁片上图案的分割设计均可根据实际需要进行调整。
4.根据权利要求1或2所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:所述定位点可表示为圆点或十字。
5.根据权利要求1或2所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺,其特征在于:根据裁片的需要,在裁片的首,尾,弯位,直角,多裁片连接处等设置定位点。
6.一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于包括:标示为A、B、C、D、E、F和G的裁片,其中,每个所述裁片上分割设计有完整图片或相片的一部分,每个所述裁片上设定有车缝轨迹线a,车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距为d,每个所述裁片上设定有定位点b,两裁片连接处的定位点线性距离相同,所述车缝轨迹线a与定位点b不重合,通过裁片上的车缝轨迹线a以及定位点b进行双重定位,对裁片进行车缝连接,以使得裁片表面图案准确连接形成完整图案,从而形成完整的包。
7.根据权利要求6所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于:所述车缝轨迹线a距离裁片边缘的边距d=8mm。
8.根据权利要求6或7所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于:所述定位点可表示为圆点或十字。
9.根据权利要求7所述的一种通过双定位拼接进行加工的全图印花拼接工艺制成的包,其特征在于:所述车缝轨迹线a、定位点b以及裁片上图案的分割设计均可根据实际需要进行调整。
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