[发明专利]IIIA族元素掺杂CdS的CZTS太阳电池制备方法在审

专利信息
申请号: 201910431131.8 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN110112062A 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 韩璐;刘芳洋;蒋良兴;贾明 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/40;H01L21/425;H01L31/18
代理公司: 长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙) 43207 代理人: 曾芳琴
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 掺杂 沉积 制备 薄膜太阳电池 离子注入法 前驱体薄膜 退火处理 背电极 窗口层 吸收层 基底 薄膜 清洗 长波 光电转换效率 硫化镉薄膜 沉积金属 光电性能 精准控制 收集效率 注入离子 顶电极 耗尽区 注入层 掺入 剥落
【权利要求书】:

1.一种采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

清洗基底;在清洗后的基底上沉积金属钼作为背电极;在背电极上沉积CZTS前驱体薄膜;将CZTS前驱体薄膜退火处理后,得到CZTS吸收层薄膜;在CZTS吸收层薄膜上沉积CdS薄膜,并采用离子注入法向CdS薄膜中掺入IIIA族元素;将沉积有掺杂CdS的样品退火处理后,在掺杂CdS上沉积窗口层;在窗口层上制备顶电极,获得CZTS薄膜太阳电池。

2.如权利要求1所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,离子注入的注入选项为B单质、Al单质、Ga单质、In单质或Ta单质中的任一种,注入剂量为1×1011at/cm2~1×1018at/cm2,离子注入气体采用BF3、PH3、AsH3、Ar或N2中的任一种,注入时间为10min~120min,靶室真空度为2×10-5Pa~2×10-4Pa,标准注入电流为5mA~100mA。

3.如权利要求2所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,掺杂CdS的样品的退火温度为100℃~400℃;退火时间为5min~120min;保温气压设为-0.1MPa~-0.03MPa;升温速率设为5℃/min~20℃/min。

4.如权利要求1-3任一项所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,CdS的制备方法包括化学水浴法、磁控溅射法、热蒸发法。

5.如权利要求1-3任一项所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,所述清洗基底的步骤包括:将基底依次用去离子水、玻璃清洗剂、丙酮、酒精、去离子水超声清洗,然后用氮气枪吹干。

6.如权利要求1-3任一项所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,基底包括铜箔、ITO导电玻璃、FTO导电玻璃、AZO导电玻璃中的任一种。

7.如权利要求1-3任一项所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,金属钼背电极的制备方法包括磁控溅射法、热蒸发法。

8.如权利要求1-3任一项所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,CZTS前驱体薄膜的制备方法包括溶胶凝胶法、磁控溅射法、连续离子层沉积法。

9.如权利要求1-3任一项所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,CZTS前驱体薄膜的退火气氛包括硫化退火、硒化退火。

10.如权利要求1-3任一项所述的采用IIIA族元素掺杂硫化镉薄膜的CZTS薄膜太阳电池制备方法,其特征在于,采用溅射法制备窗口层,其中窗口层中的本征氧化锌的射频溅射功率为80W,溅射气压为2Pa,溅射时间为6min;窗口层中的低阻氧化锌的直流溅射功率为150W,溅射气压为0.4Pa,溅射时间为20min。

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