[发明专利]含硫单分子树脂及其光刻胶组合物

权利要求书

1.一种如下式(I)所示的化合物：

其中：

式(I)中，R₀、R_a1～R_a12相同或不同，各自独立地表示H、羟基、或-OR_b，所述R_b为具有酸敏感性的基团；

所述具有酸敏感性的基团R_b为-CR¹-O-R¹、-CO-O-R¹、-CH₂-CO-O-R¹、

其中，R¹相同或不同，彼此独立地选自未取代，或任选被一个、两个或更多个Rs取代的如下基团：C_1-6烷基，C_3-8单环环烷基、C_7-12桥环环烷基；

m为1至4的任一整数；

Rs相同或不同，彼此独立地选自如下基团：NO₂、卤素、C_1-6烷基、C_1-6烷氧基、C_3-12环烷基；

条件是上述基团R₀、R_a1～R_a12中至少有一个不为H，且式(I)不为化合物4,4'-硫醚二(2,6-二苯基苯酚)。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述具有酸敏感性的基团R_b选自如下：

其中，表示连接键。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于，所述式(I)所示的化合物选自如下化合物：

4.权利要求1-3任一项所述化合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

其中，R₀、R_a1～R_a12如权利要求1-3任一项所定义，R₀’、R_a1’～R_a12’相同或不同，各自独立地表示氢原子或羟基；

将式(II)化合物与还原剂X-L反应，制备得到式(I)化合物，其中，R₀、R_a1～R_a12独立的选自H或-OH；

所述还原剂X-L为PCl₃；

任选的，将上述得到的式(I)化合物与化合物R_b-L反应，制备得到R₀、R_a1～R_a12独立的选自H或-OR_b的式(I)化合物；其中L为离去基团或者L与R_b构成含R_b的酸酐，所述-R_b为酸敏感性基团。

5.权利要求1-3任一项所述化合物的用途，其特征在于，用作光刻胶的主体材料。

6.一种正性光刻胶组合物，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述化合物，光酸产生剂，以及光刻胶溶剂；

所述光酸产生剂选自离子型光酸产生剂或非离子型光酸产生剂；

所述光刻胶溶剂选自乳酸乙酯、醋酸丁酯、丙二醇单甲醚醋酸酯(PGMEA)、丙二醇二甲醚、乙二醇单甲醚、环己酮、甲基正戊酮、甲基异戊酮中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，式(I)中R_a1～R_a12、R₀中至少一个为-OR_b。

8.根据权利要求6所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，式(I)中R_a1～R_a12中在每个苯环上至少具有一个-OR_b。