[发明专利]一种用于核设施的泡沫去污剂及其制备方法在审
申请号: | 201910431831.7 | 申请日: | 2019-05-23 |
公开(公告)号: | CN111979061A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 水立军;宋键 | 申请(专利权)人: | 合肥科源应用化工研究所 |
主分类号: | C11D1/86 | 分类号: | C11D1/86;C11D3/60;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/34;C11D3/36;C11D3/37 |
代理公司: | 上海市锦天城律师事务所 31273 | 代理人: | 何金花 |
地址: | 230000 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 设施 泡沫 去污剂 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种用于核设施的泡沫去污剂及其制备方法,该泡沫去污剂包括助剂、净化剂、阳离子表面活性剂、螯合剂、发泡剂、稳泡剂及去离子水;所述发泡剂包括2重量份~8重量份的十六烷基二甲基氧化胺,3重量份~5重量份的脂肪醇聚氧乙烯醚磺基琥珀酸单酯二钠盐,本发明产品经过科学复配使得去污剂去污因子高,对硬表面放射性污染去污率大于99%,适用于工具、水池、地板、墙壁、设备、堆腔零件等表面放射污染的去污。
技术领域
本发明涉及核设施放射污染去污领域,具体涉及一种用于核设施表面放射污染的泡沫去污剂,尤其涉及一种用于核设施的泡沫去污剂及其制备方法。
背景技术
进入新世纪以来我国的核电与核燃料循环工业迅速蓬勃发展,经过40余年的发展,我国也遗留下了许多核设施。目前这些核设施中有一大批面临着即将退役或者正在进行退役,为了能够妥善的开展退役工程以及保护退役作业人员人身安全和废物减容的需求,所以目前非常急需进行核设施的去污技术研究。在许多核设施在运行过程中,会有一些大体积空腔容器(如贮液大罐和手套箱等)被放射性物质所污染,它们的退役去污也是当前核工业的难点之一。目前,涉及表面化学去污的技术主要包括:
①化学方法:化学去污技术是利用化学试剂的溶解、氧化还原、络合、螯合、钝化、缓蚀、表面润湿等化学作用,除去带有放射性核素的污垢物、油漆涂层、氧化膜层等如公开CN102899206、CN104562054、CN107418789、CN107828524、CN 107629894、CN 108560003;②化学凝胶法:凝胶作为化学去污剂的载体,它是含有各种去污试剂(如硫酸/磷酸+Ce 4+)、凝胶剂和其他组分的黏性溶液。在使用过程中,将其喷洒或涂覆于部件表面,形成一层持久的液膜,在成膜过程中,高分子链上的官能团以及其中的络合剂与放射性核素发生物理化学反应,使放射性核素从污染表面转移到膜中。作用一定时间后,用擦洗、水漂洗或通过喷淋除去胶凝物,从而使被去污物表面得以去污。如公开号CN105263533。③氧化还原处理法:许多金属或其化合物在高氧化态下容易碎裂或溶解,故在去污中常将高锰酸钾、重铬酸钾、过氧化氢等用于处理金属表面的氧化物、溶解裂变产物和各种化学物质、对金属表面进行氧化处理。以高锰酸钾为例,世界上开发了多种去污方法。a.碱性高锰酸钾(AP)法;b.AP-CITROX法;c.高锰酸钾-柠檬酸铵(APAC)法;d.碱性高锰酸钾-柠檬酸铵-EDTA(APACE)法;e.碱性高锰酸钾-草酸(APOX)法。④络合处理法:络合剂可与某些离子选择性地结合形成络合物,阻止一些金属离形成沉淀物。常用的EDTA能与大多数离子络合,但它的价格昂贵且作为侵蚀金属氧化层的强酸溶液,适用范围有限,产生的放射性废物较难处理。⑤可剥离膜去污法可剥离膜去无法是20世纪80年代随着退役工作的开展发展起来的一种新型去污技术。可剥离去污膜的主要成分是带有多种官能团的高分子有机化合物,并加入各种添加剂(络合剂、乳化剂、成膜剂、浸润剂等),以增加去污能力和改善涂料的物理化学性能。成膜以前它是一种水分散型乳液,用喷涂或刷涂法将其涂于沾污表面,经干燥成膜。在成膜过程中,高分子链上的官能团以及其中的各种络合剂(螯合剂)与污染放射性核素发生物理、化学变化,表面的污染物进入膜中,从而达到去污目的,如公开号CN108085158、CN104327660、CN108034324。⑥电化学去污法:电化学去污是将去污部件作阳极,电解槽作阴极,在电流的作用下使表面污染物均匀溶解,污染核素进人电解液中。与传统去污技术相比电化学去污对金属基体损伤较小、工作效率较高、产生的废物少。但是电化学法去污所需费用较高,需严格控制操作,不能用于非金属部去污。如公开号:CN104389011、CN1986904⑦泡沫去污技术因其能够充满这些大体积空腔容器、化学试剂消耗量少以及产生的二次废液少使其成为比较有效的去污方法。对盲孔、隙缝以及一般难以去污的地方都可以清洗得非常干净,对材料的腐蚀小。但是,现有的泡沫去污剂配方单一、效率偏低,采用含硫发泡剂,腐蚀率高,对后续溶液中核素的处理,如蒸发、过滤等存在一定的影响。
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