[发明专利]一种场效应管应变传感器在审

专利信息
申请号: 201910432744.3 申请日: 2019-05-23
公开(公告)号: CN110174193A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 渠开放;江斌;程庆苏;李桂华;吉娜;王伟 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: G01L1/12 分类号: G01L1/12;G01L9/16
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210003 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沟道层 应变传感器 栅极氧化层 场效应管 隔离层 上表面 漏区 源区 绝缘体 栅极氧化层表面 传感器实现 磁性材料 两侧设置 量子干涉 表面态 低功率 法布里 纳米级 异质结 功耗 漏极 拓扑 源极 探测 施加 应用
【权利要求书】:

1.一种场效应管应变传感器,其特征在于:包括隔离层(1),设置于隔离层(1)上表面的源区(2)、第一沟道层(3)和漏区(4),所述第一沟道层(3)上表面中部设置栅极氧化层(5),两侧设置第二沟道层(6);所述源区(2)、第二沟道层(6)、栅极氧化层(5)和漏区(4)的上表面齐平;所述栅极氧化层(5)上设置有栅极(7),所述源区(2)的一侧设置有源极(8),所述漏区(4)一侧设置有漏极(9);所述第一沟道层(3)为拓扑绝缘体,所述第二沟道层(6)为磁性材料;所述栅极氧化层(5)表面施加一向下的力。

2.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述隔离层(1)为SiO2

3.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述拓扑绝缘体为三维拓扑绝缘体或拓扑晶体绝缘体。

4.根据权利要求3所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述三维拓扑绝缘体为Bi2Se3、Sb2Se3、InSb或Li2IrO3

5.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述磁性材料为CrI3。

6.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述第二沟道层(6)和向下的力在顶部形成FM-strained-FM结。

7.根据权利要求6所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述FM-strained-FM结与第一沟道层(3)形成FM-strained-FM-TI异质结。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京邮电大学,未经南京邮电大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910432744.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top