[发明专利]一种场效应管应变传感器在审
申请号: | 201910432744.3 | 申请日: | 2019-05-23 |
公开(公告)号: | CN110174193A | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 渠开放;江斌;程庆苏;李桂华;吉娜;王伟 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | G01L1/12 | 分类号: | G01L1/12;G01L9/16 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210003 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沟道层 应变传感器 栅极氧化层 场效应管 隔离层 上表面 漏区 源区 绝缘体 栅极氧化层表面 传感器实现 磁性材料 两侧设置 量子干涉 表面态 低功率 法布里 纳米级 异质结 功耗 漏极 拓扑 源极 探测 施加 应用 | ||
1.一种场效应管应变传感器,其特征在于:包括隔离层(1),设置于隔离层(1)上表面的源区(2)、第一沟道层(3)和漏区(4),所述第一沟道层(3)上表面中部设置栅极氧化层(5),两侧设置第二沟道层(6);所述源区(2)、第二沟道层(6)、栅极氧化层(5)和漏区(4)的上表面齐平;所述栅极氧化层(5)上设置有栅极(7),所述源区(2)的一侧设置有源极(8),所述漏区(4)一侧设置有漏极(9);所述第一沟道层(3)为拓扑绝缘体,所述第二沟道层(6)为磁性材料;所述栅极氧化层(5)表面施加一向下的力。
2.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述隔离层(1)为SiO2。
3.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述拓扑绝缘体为三维拓扑绝缘体或拓扑晶体绝缘体。
4.根据权利要求3所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述三维拓扑绝缘体为Bi2Se3、Sb2Se3、InSb或Li2IrO3。
5.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述磁性材料为CrI3。
6.根据权利要求1所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述第二沟道层(6)和向下的力在顶部形成FM-strained-FM结。
7.根据权利要求6所述的一种场效应管应变传感器,其特征在于:所述FM-strained-FM结与第一沟道层(3)形成FM-strained-FM-TI异质结。
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