[发明专利]一种新型的叶轮排水系统

说明书

本发明公开了一种新型的叶轮排水系统，包括：过滤槽；可拆卸过滤器，所述可拆卸过滤器设置在所述过滤槽中；叶轮，所述叶轮设置在所述可拆卸过滤器中；马达，所述马达用于带动所述叶轮旋转；第一残渣收集槽，所述第一残渣收集槽设置在所述过滤槽的平行位置，且与所述过滤槽相通；第二残渣收集槽，所述第二残渣收集槽位于所述第一残渣收集槽的下方，且与所述第一残渣收集槽相通；以及排水管道，所述排水管道与所述过滤槽、所述第二残渣收集槽相通。

技术领域

本发明涉及半导体设备技术领域。具体而言，本发明涉及一种用于化学机械研磨设备的新型的叶轮排水系统。

背景技术

在先进半导体制造工艺中，需要用到化学机械研磨(CMP，Chemical MechanicalPolishing)工艺进行研磨及平坦化，例如对有源层上方的绝缘层、金属层间的介质层都需要采用化学机械研磨。

化学机械研磨机在进行研磨工艺时，需要用到研磨液进行研磨，研磨液可以与被研磨材料产生化学反应，产生溶解或者软化，然后在结合研磨垫的机械研磨作用实现高平台度的研磨效果。在研磨过程中，会产生大量的研磨废液，研磨废液再通过设备的排水管道排走。

在现有的化学机械研磨废液排除系统中，一方面，没有良好的过滤装置，使其研磨废液中会存在大量的研磨液残渣在排水管道上结晶，随着使用时间的推移，研磨液残渣和结晶会不断的聚集在排水管道的侧壁中，最终导致管道堵塞，使设备不能正常的排水，从而引发设备停机；另一方面，采用通用的过滤装置，其功能单一不能起到很好的过滤作用，反而容易使很多研磨残渣附着在过滤器表面造成排水口堵塞，从而又进一步增加了设备停机检修的概率。

图1示出现有的化学机械研磨设备及废液排除系统示意图100，如图1所示，该系统100包括化学机械研磨区110、设备内部排水管道120和外部排水主管道130组成。化学机械研磨区110进一步包括研磨台111、研磨头112、研磨废液113、过滤器114(图中未示出位于研磨头下的研磨垫以及硅片等)；研磨废液113经过过滤器114后进入设备内部排水管道120，并在设备内部排水管道120的内壁形成结晶残渣121，从而逐渐导致管道堵塞。此外，过滤器114对研磨废液113进行初步过滤，大量的研磨残渣附着在过滤器114的表面，会导致排水口堵塞，增加设备停机概率和检修频率。

针对现有的化学机械研磨废液排除系统存在的上述问题，本发明提出一种用于化学机械研磨设备的新型的叶轮排水系统，利用新型的叶轮过滤装置，使大体积的残渣分离，并设置简易可拆卸装置进行定期清理，减少研磨残渣在管道内的聚集，从而提升化学机械研磨设备的使用率。

发明内容

针对现有的化学机械研磨废液排除系统存在的没有良好的过滤装置，研磨液残渣易在排水管道上结晶，最终导致管道堵塞，以及通用的过滤装置功能单一不能起到很好的过滤作用，反而容易使很多研磨残渣附着在过滤器表面造成排水口堵塞等问题，本发明提供一种用于化学机械研磨设备的新型的叶轮排水系统。

根据本发明的一个实施例，提供一种新型的叶轮排水系统，包括：

过滤槽；

可拆卸过滤器，所述可拆卸过滤器设置在所述过滤槽中；

叶轮，所述叶轮设置在所述可拆卸过滤器中；

马达，所述马达用于带动所述叶轮旋转；

第一残渣收集槽，所述第一残渣收集槽设置在所述过滤槽的平行位置，且与所述过滤槽相通；

第二残渣收集槽，所述第二残渣收集槽位于所述第一残渣收集槽的下方，且与所述第一残渣收集槽相通；以及

排水管道，所述排水管道与所述过滤槽、所述第二残渣收集槽相通。

在本发明的一个实施例中，所述可拆卸过滤器成圆台状，其垂直截面为梯形。