[发明专利]蚀刻剂组合物和硅烷化合物

权利要求书

1.一种蚀刻剂组合物，其包括：磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物：

[化学式1]

其中，

A为C₁-C₂₀亚烷基，

L为C₁-C₃亚烷基，

R¹-R³独立地为C₁-C₂₀烷氧基或R¹-R³为通过氮彼此连接的C₁-C₂₀烷氧基，

n为2，

其中相对于总体蚀刻剂组合物，所述硅烷化合物的含量为0.001-1重量％。

2.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述C₁-C₂₀亚烷基为(CH₂)₂或(CH₂)₆。

3.一种蚀刻剂组合物，其包括：磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物：

[化学式1]

其中，

A为*-NR¹⁴-*、*-NR¹⁵CSNR¹⁶-*、*-NR¹⁷CONR¹⁸-*、*-NR¹⁹L¹NR²⁰-*、*-NR²¹CONR²²L²NR²³CONR²⁴-*、*-NR²⁵CONL³L⁴NCONR²⁶-*、

其中，R¹⁴-R²⁷独立地为氢或C₁-C₂₀烷基，

L₁-L₅为C₁-C₂₀亚烷基或R⁴¹(OR⁴²)_p，其中，R⁴¹和R⁴²独立地为C₁-C₂₀亚烷基，p为1-5的整数，

L₆为直接键或(CH₂)_qNR⁴³NR⁴⁴，其中，R⁴³和R⁴⁴独立地为氢或C₁-C₂₀烷基，q为1-5的整数，

L为C₁-C₃亚烷基，

R¹-R³各自独立地为C₁-C₂₀烷氧基或R¹-R³为通过氮彼此连接的C₁-C₂₀烷氧基，

n为2-4的整数，

其中相对于总体蚀刻剂组合物，所述硅烷化合物的含量为0.001-1重量％。

4.一种蚀刻剂组合物，其包括：磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物：

[化学式1]

其中，

A为*-O-*，

L为C₁-C₃亚烷基，

R¹-R³各自独立地为C₁-C₂₀烷氧基或R¹-R³为通过氮彼此连接的C₁-C₂₀烷氧基，

n为2，

其中相对于总体蚀刻剂组合物，所述硅烷化合物的含量为0.001-1重量％。