[发明专利]状态期间的子脉冲

权利要求书

1.一种控制器，其包括：

处理器，所述处理器被配置为产生脉冲信号，所述脉冲信号在第一状态内具有子状态并且在第二状态内具有子状态，所述第一状态的子状态以大于所述第一状态和第二状态的频率的频率彼此相对交替，所述第二状态的子状态以大于所述第一状态和第二状态的频率的频率彼此相对交替，

其中，所述处理器被配置为提供所述脉冲信号以控制由射频(RF)发生器产生的射频(RF)信号的功率，其中，所述RF信号的功率被控制成与所述脉冲信号同步以具有所述第一状态的子状态和所述第二状态的子状态；以及

存储设备，所述存储设备耦合至所述处理器。

2.根据权利要求1所述的控制器，其中，所述脉冲信号是基于所述第一状态的子状态的频率、所述第一状态的子状态的工作周期、所述第一状态发生的时间、所述第二状态的子状态的频率、所述第二状态的子状态的工作周期、以及所述第二状态发生的时间来产生的。

3.根据权利要求1所述的控制器，其中，所述第一状态的子状态包括第一子状态和第二子状态，其中，所述RF信号的功率具有多个功率水平，其中，在所述第一子状态期间，所述RF信号具有所述功率水平的第一功率水平，在所述第二子状态期间，所述RF信号具有所述功率水平的第二功率水平，其中，所述第一子状态和所述第二子状态在所述第一状态期间重复多次，其中，所述功率水平的第一功率水平不同于所述功率水平的第二功率水平。

4.根据权利要求1所述的控制器，其中，所述第二状态的子状态包括第一子状态和第二子状态，其中，所述RF信号的功率具有多个功率水平，其中，在所述第一子状态期间，所述RF信号具有所述功率水平的第一功率水平，在所述第二子状态期间，所述RF信号具有所述功率水平的第二功率水平，其中，所述第一子状态和所述第二子状态在所述第二状态期间重复多次，其中，所述功率水平的第一功率水平不同于所述功率水平的第二功率水平。

5.一种等离子体工具，其包括：

射频(RF)发生器，所述RF发生器被配置为产生RF信号；

匹配装置，所述匹配装置耦合至RF电源以接收所述RF信号并且从所述RF信号产生修改的信号；

等离子体室，所述等离子体室耦合至所述匹配装置以接收所述修改的信号；以及

控制器，所述控制器耦合至所述RF发生器，

其中，所述控制器被配置为产生脉冲信号，所述脉冲信号在第一状态内具有子状态并且在第二状态内具有子状态，所述第一状态的子状态以大于所述第一状态和第二状态的频率的频率彼此相对交替，所述第二状态的子状态以大于所述第一状态和第二状态的频率的频率彼此相对交替；

其中，所述控制器被配置为提供所述脉冲信号以控制由所述RF发生器产生的所述RF信号的功率，其中，所述RF信号的功率被控制成与所述脉冲信号同步以具有所述第一状态的子状态和所述第二状态的子状态。

6.根据权利要求5所述的等离子体工具，其中，所述脉冲信号是基于所述第一状态的子状态的频率、所述第一状态的子状态的工作周期、所述第一状态发生的时间、所述第二状态的子状态的频率、所述第二状态的子状态的工作周期、以及所述第二状态发生的时间来产生的。

7.根据权利要求5所述的等离子体工具，其中，所述第一状态的子状态包括第一子状态和第二子状态，其中，所述RF信号的功率具有多个功率水平，其中，在所述第一子状态期间，所述RF信号具有所述功率水平的第一功率水平，在所述第二子状态期间，所述RF信号具有所述功率水平的第二功率水平，其中，所述第一子状态和所述第二子状态在所述第一状态期间重复多次，其中，所述功率水平的第一功率水平不同于所述功率水平的第二功率水平。