[发明专利]一种废渣或尾矿堆场底部防渗风化基岩的修复方法在审

专利信息
申请号: 201910435616.4 申请日: 2019-05-23
公开(公告)号: CN110258652A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 冯秀娟 申请(专利权)人: 中节能大地环境修复有限公司;冯秀娟
主分类号: E02D31/00 分类号: E02D31/00
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 张乐乐
地址: 100043 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 岩层 填充物 风化基岩 尾矿堆场 岩层表面 废渣 防渗 裂缝 渗入 基岩 严重环境污染 修复 防止污染 工业废物 强度不足 岩层裂隙 裂隙 防渗层 有效地 矿渣 化工产品 废液 填充 施工
【说明书】:

发明公开了一种废渣或尾矿堆场底部防渗风化基岩的修复方法,包括以下步骤:S1清理基岩层表面,以露出所述基岩层;S2向所述基岩层的裂缝中添加填充物;S3在所述基岩层表面施工防渗层,以防止污染液渗入。通过填充物填充基岩层的裂缝,可以有效地解决现有技术中因为基岩存在大量的裂隙其强度不足的问题同时,克服工业废物废液、化工产品、矿渣等渗入基岩层裂隙中造成严重环境污染的问题。

技术领域

本发明涉及生态修复技术领域,具体涉及一种废渣或尾矿堆场底部防渗风化基岩的修复方法。

背景技术

在基岩上,常见到与其表面大致平行的成层剥离现象,称为层裂(exfoliation)。基岩表层出现层裂的原因,除温差风化的原因外,还与基岩卸载有关。原先埋藏在地下深处的岩石受到较大的围压。当其上面覆盖的岩块被剥蚀掉后,上部压力的降低导致基岩向上膨胀,从而产生大致平行于基岩露出表面的破裂面和一些近于垂直表面的裂隙。这种层裂作用同其他风化联合作用,便可造成突出地面的剥离丘。

随着我国工业的快速发展,致使环境污染也日趋严重。一些化工、矿山企业的废渣、尾矿堆场、堆浸场、尾矿库等缺乏有效的防渗措施,导致工业废物(液)、化工产品、矿渣等对土壤及地下水体造成了污染,严重危害了人们赖以生存的环境。因基岩层上有较多的裂隙,严重影响基岩层的强度。而且,上述污染物渗入基岩层的裂隙中,会造成严重的环境污染问题。

发明内容

有鉴于此,本发明实施例提供了一种废渣或尾矿堆场底部防渗风化基岩的修复方法,以解决现有技术中因为基岩存在大量的裂隙,强度不足,且工业废物废液、化工产品、矿渣等渗入裂隙中造成严重环境污染的问题。本发明实施例提供了一种废渣或尾矿堆场底部防渗风化基岩的修复方法,包括以下步骤:

S1清理基岩层表面,以露出所述基岩层;

S2向所述基岩层的裂缝中添加填充物;

S3在所述基岩层表面施工防渗层,以防止污染液渗入。

所述填充物为高分子胶,所述高分子胶为矿渣再利用形成的胶体。

所述清理基岩层表面,包括:清除所述基岩层上层的覆盖层以及对所述基岩层进行裂缝清理。

所述防渗层为铺设在所述基岩层上的HDPE膜,和/或在所述基岩层表面涂抹的高分子防渗材料。

所述防渗层形成倾斜设置的引渠面,将污染液引出。

风化基岩的修复方法,还包括以下步骤:

施工集液区,所述防渗层朝向所述集液区倾斜将污染液引入所述集液区。

所述集液区为用于容置所述污染液的沟,通过水处理装置对所述沟内的污染液进行处理。

所述防渗层上铺设有用于保护所述防渗层的地层防护层,所述地层防护层为无纺布。

在步骤S1中,采用负压吸气的方式清理所述基岩层(1)表面。

本发明的技术方案,具有如下优点:

1.本发明提供的废渣或尾矿堆场底部防渗风化基岩的修复方法,包括以下步骤:S1清理基岩层表面,以露出所述基岩层;S2向所述基岩层的裂缝中添加填充物;通过添加在基岩层裂缝中的填充物可以有效地增加基岩层的承载强度,保证施工安全。而且,通过上述填充物可以有效地防止工业废物、工艺废液、化工产品、矿渣等,上述污染物渗入基岩层的裂隙中,造成严重的环境污染问题。

2.本发明提供的废渣或尾矿堆场底部防渗风化基岩的修复方法,还包括步骤S2之后的步骤S3,所述步骤S3为在所述基岩层表面施工防渗层,以防止污染液渗入。通过上述防渗层可以进一步有效地防止工业废物、工艺废液、化工产品、矿渣等,上述污染物进入基岩层的裂隙中,造成严重的环境污染问题。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中节能大地环境修复有限公司;冯秀娟,未经中节能大地环境修复有限公司;冯秀娟许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910435616.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top