[发明专利]一种调光片及其制备方法

权利要求书

1.一种调光片，其特征在于，所述调光片包括调光层和基体，调光层置于基体的一个表面上；所述调光层和基体均具有入光面和出光面；调光层内包含有光散射剂，所述光散射剂置于调光层的入光面和出光面之间。

2.根据权利要求1所述的调光片，其特征在于，所述调光层的入光面的表面粗糙度Ra≤250nm，所述调光层的出光面的表面粗糙度Ra≤250nm；所述基体的入光面的表面粗糙度Ra≤250nm，所述基体的出光面的表面粗糙度Ra≤250nm。

3.根据权利要求2所述的调光片，其特征在于，所述调光层内包括传播介质和光散射剂，所述光散射剂分散在传播介质中；所述调光层的入光面的表面粗糙度Ra250nm，所述调光层的出光面的表面粗糙度Ra250nm；所述基体的入光面的表面粗糙度Ra250nm，所述基体的出光面的表面粗糙度Ra250nm。

4.根据权利要求2所述的调光片，其特征在于，所述调光层的厚度T为0.5～5000μm；所述调光层的入光面的表面粗糙度Ra100nm，所述调光层的出光面的表面粗糙度Ra100nm；所述基体的入光面的表面粗糙度Ra100nm，所述基体的出光面的表面粗糙度Ra100nm。

5.根据权利要求3所述的调光片，其特征在于，所述传播介质选自聚合物树脂。

6.根据权利要求2所述的调光片，其特征在于，所述光散射剂的粒径D选自0.1～50μm。

7.根据权利要求2所述的调光片，其特征在于，所述调光层的入光面的表面粗糙度Ra50nm，所述调光层的出光面的表面粗糙度Ra50nm；所述基体的入光面的表面粗糙度Ra50nm，所述基体的出光面的表面粗糙度Ra50nm。

8.根据权利要求2所述的调光片，其特征在于，所述光散射剂选自聚合物粒子或无机粒子中的一种或至少两种的组合。

9.根据权利要求2所述的调光片，其特征在于，所述光散射剂在调光层中的填充率D’为0.0001～0.95。

10.根据权利要求2所述的调光片，其特征在于，所述基体选自无色透明的聚合物基体、或玻璃基体中的一种。

11.一种根据权利要求1-10中任一项所述的调光片的制备方法，其特征在于，所述方法包含下述步骤：

(1)将光散射剂均匀分散在聚合物树脂原料中，形成预分散体；

(2)将步骤(1)得到的预分散体制成层状体；

(3)将步骤(2)得到的层状体固化，得到调光层；

(4)将步骤(3)的调光层和基体进行复合，得到所述调光片。

12.一种根据权利要求1-10中任一项所述的调光片的制备方法，其特征在于，所述方法包含下述步骤：

(1)将光散射剂均匀分散在聚合物树脂原料中，形成预分散体；

(2)将步骤(1)得到的预分散体在基体的一个表面上形成层状体；

(3)将步骤(2)得到的层状体固化，直接得到所述调光片。