[发明专利]镜片光学镀膜表面处理工艺以及通过该工艺制备得到的镜片在审
申请号: | 201910439662.1 | 申请日: | 2019-05-24 |
公开(公告)号: | CN110093587A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 陈朝岚;吴玉民;郭勇;曾宇;杨科 | 申请(专利权)人: | 湖南宏泰新材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/26;C23C14/02;C23C14/12;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/32 |
代理公司: | 湖南天地人律师事务所 43221 | 代理人: | 陈旭云 |
地址: | 410300 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 镜片 处理工艺 镀膜表面 镜片光学 等离子轰击 电子束蒸镀 太阳镜镜片 防雾性能 工艺制备 技术要求 镜片表面 离子辅助 时间延长 镀膜料 防水膜 活化基 易清洁 刮伤 防水 蒸发 | ||
1.一种镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述工艺包括以下步骤:
步骤1),对镜片表面进行等离子轰击,活化基板;
步骤2),制镀膜料,采用离子辅助制镀;
步骤3),电子束蒸镀防水膜;
步骤4),阻蒸蒸发AF;
步骤5),静置。
2.根据权利要求1镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述步骤2)中,使用Ti3O5/SiO2离子辅助镀膜。
3.根据权利要求1镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述步骤3)中,防水膜置于石墨坩埚中。
4.根据权利要求1镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述步骤1)中,对于玻璃镜片,通过等离子轰击后使其水滴角值低于15°。
5.根据权利要求1或2镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述步骤2)中,根据不同的颜色需求调整膜层厚度。
6.根据权利要求1或3镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述步骤3)中,使用石墨坩埚放置防水膜时,石墨坩埚底部垫石英垫片,防水膜置于石墨坩埚内中间位置。
7.根据权利要求1或3镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述步骤3)中,预先调试电子枪电流电压。
8.根据权利要求1镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述步骤4)中,在阻蒸蒸发位置放置AF材料。
9.根据权利要求1或8镜片光学镀膜表面处理工艺,其特征在于,所述AF材料为全氟聚醚硅氧烷。
10.使用权利要求1-9任一项所述镜片光学镀膜表面处理工艺制备得到的镜片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南宏泰新材料有限公司,未经湖南宏泰新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910439662.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:蒸发源及蒸镀方法
- 下一篇:一种细晶粒铝钪合金靶材及其制备方法和应用
- 同类专利
- 专利分类