[发明专利]一种基板清洗头及基板清洗装置

权利要求书

1.一种基板清洗头，包括：具有一定厚度的圆盘状基座及同心连接于所述基座下表面的圆形清洁垫，所述基座沿厚度方向具有多个流体通道，所述清洁垫具有多个通孔，每个通孔耦合至不同的流体通道，使得清洗液可经由所述多个通孔中的一部分喷射至基板表面并在与污染物结合后经由另一部分通孔吸走；所述清洁垫的截面半径小于所述基座的截面半径，所述基座的外周侧设置有斜向贯通的冲洗通道，使得冲洗液可通过冲洗通道的上方端口及冲洗通道经由位于清洁垫外侧的下方端口流出，以去除附着于清洁垫外周侧的污染物。

2.如权利要求1所述的清洗头，其特征在于，所述通孔沿所述清洁垫的具有不同直径的圆周等距均匀分布。

3.如权利要求1所述的清洗头，其特征在于，所述通孔沿所述清洁垫的半径方向等距均匀分布。

4.如权利要求1至3中任一项所述的清洗头，其特征在于，相邻的两个通孔分别用于喷射和吸走清洗液。

5.如权利要求1所述的清洗头，其特征在于，所述基座与清洁垫之间可拆卸地设置有连接板，所述连接板的截面半径与清洁垫的截面半径相同且具有与清洁垫同样分布的通孔，使得清洗液可以经由耦合的流体通道、连接板的通孔、清洁垫的通孔喷射至基板表面，或者，使得清洗液经由耦合的清洁垫的通孔、连接板的通孔、流体通道从基板表面吸走。

6.如权利要求5所述的清洗头，其特征在于，所述流体通道、连接板的通孔、清洁垫的通孔的截面半径不同。

7.如权利要求5所述的清洗头，其特征在于，所述流体通道、连接板的通孔、清洁垫的通孔的内壁的疏水性不同。

8.如权利要求1所述的清洗头，其特征在于，所述清洁垫的下表面设置有多个凸起。

9.如权利要求1所述的清洗头，其特征在于，所述清洁垫的半径小于基板的半径。

10.一种基板清洗装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的基板清洗头、清洗头驱动装置、基板固定装置、清洗液管路、气体管路及冲洗液管路，使得所述清洗头可距基板表面一定距离平行于基板表面移动，所述清洗液管路和气体管路分别将清洗头与清洗液单元和抽气单元连接，所述冲洗液管路将清洗头与冲洗液单元连接。