[发明专利]二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置有效

专利信息
申请号: 201910443498.1 申请日: 2019-05-24
公开(公告)号: CN110163929B 公开(公告)日: 2023-04-11
发明(设计)人: 王防修 申请(专利权)人: 武汉轻工大学
主分类号: G06T11/20 分类号: G06T11/20;G06F17/11
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 430023 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 二次曲面 方程 共享 绘图 方法 设备 存储 介质 装置
【说明书】:

发明公开了一种二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置,该方法通过在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数,根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程,通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形,能够识别所有的二次曲面方程,降低用户绘图操作难度,提高二次曲面方程绘图效率和准确度。

技术领域

本发明涉及计算机技术领域,尤其涉及一种二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置。

背景技术

二次曲面方程包括椭圆锥面方程、椭球面方程、单叶双曲面方程、双叶双曲面方程、椭圆抛物面方程、双曲抛物面方程、椭圆柱面方程、双曲柱面和抛物柱面方程,即使是相同类型的二次曲面方程也有多种形式的表达式。目前,不同的二次曲面类型需要选择对应的绘图工具才能够实现绘图,用户不用知道所绘曲面的方程类型,就无法确定选取何种绘图工具进行绘图,导致二次曲面方程的绘图效率低且准确率不高。

上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案,并不代表承认上述内容是现有技术。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置,旨在解决现有技术中二次曲面方程的绘图效率低且准确率不高的技术问题。

为实现上述目的,本发明提供一种二次曲面方程的共享绘图方法,所述二次曲面方程的共享绘图方法包括以下步骤:

在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数;

根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型;

根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程;

通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。

优选地,所述根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,具体包括:

判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值;

若所述变量数量为所述第一预设数值,且所述变量次数均大于所述第二预设数值,则查找与所述第一预设数值对应的第一标准方程集;

根据所述变量次数及所述第一标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。

优选地,所述判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值之后,所述二次曲面方程的共享绘图方法还包括:

若所述变量数量不为所述第一预设数值,且所述变量次数未均大于所述第二预设数值,则判断各所述变量次数之和是否小于等于第三预设数值;

若各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值,则查找满足各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值的第二标准方程集;

根据所述变量次数及所述第二标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。

优选地,所述根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程,具体包括:

根据所述目标方程类型,从所述待绘图二次曲面方程中查找各所述目标变量的变量位置;

根据所述变量位置从所述待绘图二次曲面方程中提取各所述目标变量分别对应的目标多项式;

从所述待绘图二次曲面方程中提取出目标常数项;

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