[发明专利]一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉、抛釉砖及其制备方法

权利要求书

1.一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉，其特征在于，包括质量比为1：0.4～0.6：30～40的基础釉、釉浆调节剂和水；所述基础釉的组分及各组分占所述基础釉的质量百分含量分别为：钾长石 15～20%，钠长石 15～17%，白云石 3～6%，硅灰石 5～7%，烧滑石 1.5～3%，碳酸钡 4.3～5.5%，煅烧氧化锌 3.5～4.5%，水洗高岭土 5～6.5%，石英 3.2～4.5%，煅烧氧化铝 2.5～3.7%，高温哑光熔块 30～33%。

2.如权利要求1所述的一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉，其特征在于：所述基础釉、釉浆调节剂和水的质量比为1：0.47：35。

3.如权利要求1或2所述的一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉，其特征在于：所述釉浆调节剂包括羧甲基纤维素钠和三聚磷酸钠，所述羧甲基纤维素钠和所述三聚磷酸钠的质量比为0.1～0.15：0.3～0.4。

4.如权利要求3所述的一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉，其特征在于：所述羧甲基纤维素钠和所述三聚磷酸钠的质量比为0.12：0.35。

5.如权利要求1或2所述的一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉，其特征在于，所述基础釉的组分及各组分占所述基础釉的质量百分含量分别为：钾长石 17%，钠长石 16%，白云石5%，硅灰石 6%，烧滑石 2%，碳酸钡 5%，煅烧氧化锌 4%，水洗高岭土 6%，石英 4%，煅烧氧化铝 3%，高温哑光熔块 32%。

6.如权利要求1或2所述的一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉，其特征在于：所述基础釉中氧化钙、氧化镁、氧化钡的质量百分含量分别为：4～8%、1.5～2.5%、3～5%。

7.如权利要求6所述的一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉，其特征在于：所述基础釉中氧化钙、氧化镁、氧化钡的质量百分含量分别为：6%、2%、4%。

8.一种抛釉砖，包括坯体，所述坯体的表面包覆有底釉层，所述底釉层的外表面包覆有面釉层，其特征在于：所述面釉层采用如权利要求1-7任一项所述的面釉制成。

9.一种抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将成型的坯体进行干燥处理，向干燥后的坯体的表面施加底釉；

2）再将表面施加有底釉的坯体进行干燥处理，向干燥后的坯体底釉表面施加如权利要求1-7任一项所述的面釉；

3）再将表面施加有面釉的坯体进行干燥处理后，入辊道窑烧成，烧成温度为1040～1240℃，烧成时间为30～45min，得到抛釉砖。

10.如权利要求9所述的一种抛釉砖的制备方法，其特征在于：步骤1）中干燥处理的干燥温度为150～300℃，干燥时间为80～100min；步骤2）中干燥处理的干燥温度为100～200℃，干燥时间为1～2min；步骤3）中干燥处理的干燥温度为150～200℃，干燥时间为1～2min。