[发明专利]一种图案化电路及其制备方法、触控传感器有效
申请号: | 201910459774.3 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN110174970B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 雷贝 | 申请(专利权)人: | 苏州绘格光电科技有限公司;苏州诺菲纳米科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/044 |
代理公司: | 常州智慧腾达专利代理事务所(普通合伙) 32328 | 代理人: | 曹军 |
地址: | 215000 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 图案 电路 及其 制备 方法 传感器 | ||
1.一种图案化电路,其特征在于,包括基材,所述基材的一面设有第一透明导电层,所述第一透明导电层上设有第一边框导线,所述第一边框导线上设有第一阻隔层,所述第一透明导电层上未被所述第一阻隔层遮蔽的区域形成第一非导电区域,所述第一非导电区域和第一阻隔层的表面设有第二阻隔层,所述第二阻隔层的表面平整光滑,所述第一阻隔层和第二阻隔层均为透明材料,所述第一阻隔层和所述第二阻隔层的折射率差异小于0.5,第二阻隔层与第一阻隔层界面融合形成一体。
2.根据权利要求1所述的图案化电路,其特征在于,所述第二阻隔层上设有第二透明导电层,所述第二透明导电层上设有第二边框导线,所述第二边框导线上设有第三阻隔层,所述第二透明导电层未被所述第三阻隔层遮蔽的区域形成第二非导电区域,所述第二非导电区域和第三阻隔层的表面设有第四阻隔层,所述第四阻隔层的表面平整光滑,所述第三阻隔层和第四阻隔层均为透明材料,所述第三阻隔层和第四阻隔层的折射率差异小于0.5。
3.根据权利要求1所述的图案化电路,其特征在于,所述基材的另一表面设有第二透明导电层,所述第二透明导电层上设有第二边框导线,所述第二边框导线上设有第三阻隔层,所述第二透明导电层未被所述第三阻隔层遮蔽的区域形成第二非导电区域,所述第二非导电区域和第三阻隔层的表面设有第四阻隔层,所述第四阻隔层的表面平整光滑,所述第三阻隔层和第四阻隔层均为透明材料,所述第三阻隔层和第四阻隔层的折射率差异小于0.5。
4.根据权利要求1所述的图案化电路,其特征在于,所述图案化电路有两个,两个所述图案化电路的结构相同且二者之间通过胶粘结固定。
5.根据权利要求2或3所述的图案化电路,其特征在于,所述第一阻隔层、第二阻隔层、第三阻隔层及第四阻隔层的可见光透过率均大于90%,折射率为1.2-2.0,雾度低于0.5%。
6.一种如权利要求1所述的图案化电路的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)在基材上涂布第一透明导电层;
2)在边框引线区域印刷第一导电银浆层,之后激光蚀刻,形成第一边框导线;
3)对第一透明导电层进行图形化遮蔽以形成第一阻隔层并覆盖在第一边框导线上,未被第一阻隔层遮蔽的第一透明导电层形成反应区域;
4)对步骤3)中的反应区域进行蚀刻,形成第一非导电区域;
5)在第一非导电区域和第一阻隔层表面布设第二阻隔层,使得第一非导电区域和第一阻隔层的表面平齐,即得。
7.根据权利要求6所述的图案化电路的制备方法,其特征在于,所述第一透明导电层为纳米银线导电层。
8.根据权利要求6所述的图案化电路的制备方法,其特征在于,所述第一阻隔层及第二阻隔层的形成方式为掩蔽镀膜、印刷、喷墨打印、热转印或烫印。
9.根据权利要求6所述的图案化电路的制备方法,其特征在于,步骤4)中的蚀刻为化学蚀刻或物理蚀刻。
10.一种触控传感器,其特征在于,包括盖板和权利要求1-4任一项所述的图案化电路。
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