[发明专利]一种X光散射线拟合校正方法及装置

权利要求书

1.一种X光散射线拟合校正方法，其特征在于，所述校正方法包括以下步骤：

采集X光的原始图像，基于金字塔分层模型从所述原始图像中提取第N层的低分辨率图像；

根据所述低分辨率图像中各个点光源的亮度值确定所述各个点光源对应的照射范围，利用所述照射范围得到对应的所述点光源的照射强度，根据所述照射强度确定对应的所述点光源照射对应的照射范围内的各像素点的亮度值，将不同点光源对同一像素点的亮度值叠加，以得到所述各个点光源照射对应的照射范围内的各像素点的总亮度值，将所述各像素点的总亮度值作为初始散射线图的总亮度值，对所述初始散射线图的所有像素点的所述总亮度值进行亮度调整，得到包含所有点光源的照射范围的像素点的第一散射线图；

对所述第一散射线图进行非线性处理，以获取优化后的第二散射线图；

对所述第二散射线图进行插值处理，得到与所述原始图像具有相同分辨率的第三散射线图，将所述原始图像与所述第三散射线图的各个像素点进行差值运算，得到校正后的图像。

2.如权利要求1所述一种X光散射线拟合校正方法，其特征在于，所述根据所述低分辨率图像中各个点光源的亮度值确定所述各个点光源对应的照射范围的步骤包括：

根据所述低分辨率图像中各个点光源的亮度值确定所述各个点光源的最大照射半径和最小照射半径；

利用所述各个点光源的亮度值、所述最大照射半径和所述最小照射半径计算所述各个点光源的总照射半径，以获得所述照射范围；

其中，所述总照射半径的计算公式如下：

R＝R_min+(R_max-R_min)/I_Detect_D6(i,j)

当R_min＝0时，R＝R_max/I_Detect_D6(i,j)

其中，R表示所述总照射半径，R_min表示所述最小照射半径，R_max表示所述最大照射半径，(i,j)表示所述点光源的坐标位置，I_Detect_D6(i,j)表示所述点光源的亮度值。

3.如权利要求1所述一种X光散射线拟合校正方法，其特征在于，所述利用所述照射范围得到对应的所述点光源的照射强度的步骤包括：

利用点光源的照射范围的总照射半径获取尺度参数，所述尺度参数如下：

其中，σ表示所述尺度参数，R表示所述总照射半径，n表示预设常数；

利用所述尺度参数得到所述点光源的照射强度，公式如下：

其中，f(x)表示所述点光源的照射强度，μ表示所述点光源的位置，所述点光源的坐标为(i,j)，x表示所述照射范围内的任一像素点的横坐标位置，所述任一像素点的坐标为(x,y)。

4.如权利要求1所述一种X光散射线拟合校正方法，其特征在于，所述对所述初始散射线图的所有像素点的所述总亮度值进行亮度调整，得到包含所有点光源的照射范围的像素点的第一散射线图的步骤包括：

对所述初始散射线图进行平滑滤波后，进行值阈归一化处理，统计所述初始散射线图的亮度值的直方图和预设光源的亮度值的直方图，并根据所述直方图得到亮度系数，根据所述亮度系数对所述初始散射线图的所有像素点的所述总亮度值进行亮度调整，得到包含所有点光源的照射范围的像素点的第一散射线图。

5.如权利要求1所述一种X光散射线拟合校正方法，其特征在于，所述对所述第一散射线图进行非线性处理，以获取优化后的第二散射线图的步骤包括：

对所述第一散射线图进行非线性处理，得到所述第二散射线图；公式如下：

I_scatter_2＝a+b·log_c(I_scatter_D6)

I_scatter_2表示所述第二散射线图，I_scatter_D6表示所述第一散射线图，a、b、c表示预设参数；

利用所述低分辨率图像和所述第二散射线图得到候选真实图像，根据所述候选真实图像的对比度进行排选，得到优化后的第二散射线图。