[发明专利]声学装置及电子设备

权利要求书

1.一种声学装置,其特征在于,包括：

发声单元，所述发声单元包括振动膜片，所述声学装置上设置有出声口，所述振动膜片前侧的声波通过所述出声口对外辐射；

所述振动膜片后侧形成密闭的密闭腔，所述密闭腔被间隔部间隔成第一密闭腔和第二密闭腔，其中，所述间隔部可以至少部分柔性形变，所述第一密闭腔邻接所述振动膜片，所述第二密闭腔远离所述振动膜片；

当所述振动膜片振动时，所述第一密闭腔的内部声压发生变化，所述间隔部的柔性形变部随第一密闭腔内的声压变化而产生形变，对所述第一密闭腔进行容积大小的柔性调节；所述第二密闭腔将所述柔性形变部在形变时产生的声波封闭在所述第二密闭腔内；

所述柔性形变部至少局部区域的杨氏模量或强度小于所述第一密闭腔的腔壁和/或所述第二密闭腔的腔壁的杨氏模量或强度，所述柔性形变部的全部或局部区域的杨氏模量小于等于8000Mpa。

2.根据权利要求1所述的声学装置，其特征在于，所述柔性形变部的可以产生形变的有效形变面积与所述振动膜片的有效振动面积的比值大于等于10％。

3.根据权利要求1所述的声学装置，其特征在于，所述柔性形变部的厚度小于等于0.5mm。

4.根据权利要求3所述的声学装置，其特征在于，所述柔性形变部的全部或局部区域至少采用TPU、TPEE、LCP、PAR、PC、PA、PPA、PEEK、PEI、PEN、PES、PET、PI、PPS、PPSU、PSU、硅胶和橡胶中的至少一种。

5.根据权利要求1至4任一权利要求所述的声学装置，其特征在于，

所述第一密闭腔和所述第二密闭腔的主体沿垂直于所述声学装置厚度方向的水平方向延伸。

6.根据权利要求1至4任一权利要求所述的声学装置，其特征在于，

所述第二密闭腔的容积大于所述第一密闭腔的容积。

7.根据权利要求1至4任一权利要求所述的声学装置，其特征在于，

所述发声单元和所述第一密闭腔一一对应设有多个，所述第二密闭腔设有一个，每个所述第一密闭腔与所述第二密闭腔之间的间隔部上设有柔性形变部。

8.根据权利要求1至4任一权利要求所述的声学装置，其特征在于，

所述发声单元为一个或多个，所述第一密封腔为一个，所述第二密封腔为一个或者多个。

9.根据权利要求1至4任一权利要求所述的声学装置，其特征在于，

所述发声单元的振动膜片的振动方向平行于所述声学装置的厚度方向。

10.根据权利要求1至4任一权利要求所述的声学装置，其特征在于，所述声学装置包括第一壳体，所述发声单元安装在所述第一壳体上形成发声组件，所述发声单元的振动膜片与所述第一壳体之间形成所述第一密闭腔；

所述声学装置包括第二壳体，所述发声组件安装于所述第二壳体中，所述第二壳体与所述第一壳体之间形成所述第二密闭腔；

所述第一壳体的一部分形成所述间隔部。

11.根据权利要求10所述的声学装置，其特征在于，所述第二壳体具有顶壁、底壁和连接所述顶壁和所述底壁的侧壁，所述出声口设于所述顶壁、所述底壁或者所述侧壁上。

12.根据权利要求11所述的声学装置，其特征在于，

所述声学装置设置有对应所述出声口的出声通道，所述振动膜片前侧的声波通过所述出声通道辐射到所述出声口，其中，

所述发声单元安装在所述第一壳体内，所述出声通道设置在所述第一壳体上；

或者，所述出声通道设于所述第二壳体上，所述发声组件与所述出声通道对接；

或者，所述出声通道单独设置，所述出声通道分别与所述出声口和所述发声组件对接。