[发明专利]耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法

权利要求书

1.一种耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，包括步骤：

(1)首次暴露：在厌氧氨氧化反应器进水中投加螺旋霉素，跟踪反应器出水变化；所述进水含有质量浓度比为1:0.9～1.1的亚硝氮和氨氮；所述的亚硝氮和氨氮的质量浓度为200～300mg L^-1；

(2)梯度恢复：根据反应器出水情况停止投加螺旋霉素，等比例降低进水中的氨氮和亚硝氮浓度至50～100mg L^-1，然后以等比例梯度增加进水氨氮和亚硝氮浓度的方式恢复反应器的运行性能；

(3)再次暴露：待反应器运行性能恢复后，再次投加螺旋霉素，反应器脱氮性能在波动后恢复稳定，完成耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养。

2.根据权利要求1所述的耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，其特征在于，所述的厌氧氨氧化反应器为接种厌氧氨氧化颗粒污泥的升流式厌氧污泥床反应器。

3.根据权利要求1或2所述的耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，其特征在于，所述厌氧氨氧化反应器中，厌氧氨氧化颗粒污泥的体积占反应器有效体积的40～60％；

厌氧氨氧化颗粒污泥的浓度为15～17g VSS·L^-1。

4.根据权利要求1所述的耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，其特征在于，所述进水还含有KH₂PO₄、CaCl₂·2H₂O、MgSO₄·2H₂O、KHCO₃、微量元素浓缩液I和微量元素浓缩液II；

所述微量元素浓缩液I包括EDTA和FeSO₄·7H₂O；

所述微量元素浓缩液II包括EDTA、H₃BO₄、MnCl₂·4H₂O、CuSO₄·5H₂O、ZnSO₄·7H₂O、NiCl₂·6H₂O、NaMoO₄·2H₂O和CoCl₂·6H₂O。

5.根据权利要求1所述的耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，其特征在于，所述进水的pH为7.4～7.7，水力停留时间为2～3h。

6.根据权利要求1所述的耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，其特征在于，步骤(1)中，所述进水中的螺旋霉素浓度为2～10mg L^-1。

7.根据权利要求1所述的耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，其特征在于，所述步骤(2)的具体步骤为：根据反应器出水情况停止投加螺旋霉素，等比例降低进水中的氨氮和亚硝氮浓度至步骤(1)中浓度的1/4，然后以等比例梯度增加进水氨氮和亚硝氮浓度的方式恢复进水中氨氮和亚硝氮浓度至步骤(1)中浓度，逐步恢复反应器的运行性能。

8.根据权利要求1或6所述的耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法，其特征在于，步骤(3)中，所述进水中的螺旋霉素浓度与步骤(1)相同。