[发明专利]一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘有效
申请号: | 201910466062.4 | 申请日: | 2019-05-30 |
公开(公告)号: | CN110052620B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 王涛;朱德祥;吴文恒;卢林;龙倩蕾;杨启云;张亮;吴凯琦 | 申请(专利权)人: | 上海材料研究所 |
主分类号: | B22F9/08 | 分类号: | B22F9/08 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 褚明伟 |
地址: | 200437*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 金属粉末 雾化 制备 自由式 超音速 | ||
1.一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,包括喷盘上唇(1)和喷盘下唇(2),所述喷盘上唇(1)中心有贯穿喷盘上唇厚度的中心孔(4),所述中心孔(4)上口为入口,下口为出口,所述喷盘下唇(2)设有用于与外部气源连接的进气管道(3),所述喷盘下唇(2)与喷盘上唇(1)装配后可形成环形气腔(6),所述环形气腔(6)与进气管道(3)连通,其特征在于:
所述喷盘上唇(1)与喷盘下唇(2)装配后,所述喷盘上唇(1)与喷盘下唇(2)的对接面组成喷嘴,所述喷嘴作为环形气腔(6)的出口,
所述喷盘上唇(1)的对接面上开设有用于安装隔片的上唇插槽(11),所述上唇插槽(11)由喷盘上唇(1)对接面上一点向下延伸至喷盘上唇(1)的下端,所述上唇插槽(11)沿喷盘上唇(1)的对接面周向开设,
所述喷盘下唇(2)的对接面上开设有用于安装隔片的下唇插槽(21),所述下唇插槽(21)由喷盘下唇(2)对接面的上端向下延伸至喷盘下唇(2)的下端,所述下唇插槽(21)沿喷盘下唇(2)的对接面周向开设,
所述喷盘上唇(1)的对接面上安装的隔片可与喷盘下唇(2)的对接面形成完全闭合,所述喷盘下唇(2)的对接面上安装的隔片可与喷盘上唇(1)的对接面形成完全闭合,
所述喷盘上唇(1)和喷盘下唇(2)的至少其一安装隔片,
所述喷盘上唇(1)与喷盘下唇(2)装配后,所述隔片将喷嘴分隔成单层环孔型半Laval结构的喷嘴或环孔与环孔型半Laval结构的双层结构喷嘴;
所述隔片的形状与喷盘上唇(1)和喷盘下唇(2)之间的缝隙结构保持一致;所述隔片有不同规格,用以配合喉部宽度调整后的装配,能够增加气雾化的工艺窗口。
2.根据权利要求1所述的一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,其特征在于,所述环孔型半Laval结构的喷嘴通过喷盘上唇(1)的中心孔(4)轴线的剖面是以中心孔(4)轴线为中心线对称的缝形通道,所述缝形通道一侧为直线,另一侧为曲线,所述缝形通道由喷盘上唇剖面直线AB、喷盘下唇剖面圆弧段DE、圆弧段EF和直线CD组成,圆弧段DE和直线CD在连接点D处相切,圆弧段DE和圆弧段EF在连接点E处相切,圆弧段EF在F点处的切线与直线AB平行,所述缝形通道的喉部为圆弧段DE与直线AB之间的最短距离,圆弧段DE上与直线AB距离最近的点为H,圆弧段DH与直线AB形成缝形通道的逐渐收缩,圆弧段HE和EF与直线AB形成缝形通道的逐渐扩张。
3.根据权利要求2所述的一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,其特征在于,所述喷盘上唇通过中心孔轴线的剖面中,直线AB的延长线与中心孔轴线形成夹角α为0°~80°,且α≠0°。
4.根据权利要求2所述的一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,其特征在于,所述喷盘下唇通过中心孔轴线的剖面中,直线CD与过C点竖直方向的夹角β为10°~160°。
5.根据权利要求2所述的一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,其特征在于,所述喷盘下唇通过中心孔轴线的剖面中,圆弧段DE的半径R1与圆弧段EF的半径R2的比值R1/R2为4:1~1:5。
6.根据权利要求2所述的一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,其特征在于,所述喷盘下唇通过中心孔轴线的剖面中,直线CD的长度l与圆弧段DE的半径R1及圆弧段EF的半径R2之和的比值l/(R1+R2)为3:1~2:3。
7.根据权利要求2所述的一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,其特征在于,所述喷盘上唇通过中心孔轴线的剖面中,直线AB的长度s与喷盘下唇圆弧段DE的半径R1和圆弧段EF的半径R2之和的比值s/(R1+R2)为2:3~3:7。
8.根据权利要求1或2所述的一种用于金属粉末气雾化制备的自由式超音速喷盘,其特征在于,所述喷盘上唇(1)与喷盘下唇(2)装配时,所述喷盘上唇(1)上的上唇插槽(11)与所述喷盘下唇(2)的下唇插槽(21)相错开;
所述喷盘上唇(1)的对接面的横截面上,所述上唇插槽(11)沿其圆周均匀分布,所述喷盘下唇(2)的对接面的横截面上,所述下唇插槽(21)沿其圆周均匀分布。
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