[发明专利]显示面板及其制作方法、和显示装置在审

专利信息
申请号: 201910466684.7 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN110208991A 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 刘超;黎敏;熊强;戴于力;赵永亮 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示面板 显示装置 封框胶 黑矩阵 垫层 彩膜基板 显示区域 阵列基板 制作 正常显示 周边区域 液晶 背离 侵蚀
【说明书】:

发明提供一种显示面板及其制作方法、和显示装置,其中,显示面板包括阵列基板、彩膜基板、以及位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的黑矩阵、垫层和封框胶,其中,所述黑矩阵位于显示区域外的周边区域;所述垫层位于所述黑矩阵背离所述显示区域的一侧;所述封框胶包括对应所述垫层的第一部分和对应所述黑矩阵的第二部分,所述第一部分的厚度不大于所述第二部分的厚度。本发明提供的显示面板及其制作方法、和显示装置,能够增加封框胶整体宽度,避免液晶对封框胶的侵蚀,以确保显示装置正常显示。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

近年来追求越来越高的屏占比和窄边框成为显示面板领域的主流发展趋势。在窄边框的优化设计过程中,由于缩窄上下边框需要对整个面板结构重新设计、成本较大,因此目前主要针对缩窄面板的左右边框。

现有技术中,为了提升面板的抗静电释放的能力,用于遮光的黑矩阵的宽度被缩窄,这样在彩膜基板和阵列基板成盒时,封框胶需要填充因黑矩阵缩窄而增加的空间,造成封框胶的厚度增加而导致封框胶宽度的降低,这样容易出现液晶对封框胶的侵蚀,造成显示异常的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法、和显示装置,以解决现有技术中封框胶宽度较窄,容易出现液晶对封框胶的侵蚀,造成显示异常的问题。

为了解决上述技术问题,本发明提供技术方案如下:

第一方面,本发明实施例提供一种显示面板,包括阵列基板、彩膜基板、以及位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的黑矩阵、垫层和封框胶,其中,

所述黑矩阵位于显示区域外的周边区域;

所述垫层位于所述黑矩阵背离所述显示区域的一侧;

所述封框胶包括对应所述垫层的第一部分和对应所述黑矩阵的第二部分,所述第一部分的厚度不大于所述第二部分的厚度。

进一步地,所述黑矩阵和所述垫层均位于所述封框胶面向所述彩膜基板的一侧。

进一步地,所述显示面板还包括平坦层,所述黑矩阵和所述垫层均位于所述平坦层与所述彩膜基板之间,所述平坦层与所述封框胶接触。

进一步地,所述显示面板还包括平坦层,所述平坦层对应垫层的部分位于所述垫层与所述彩膜基板之间,所述平坦层对应黑矩阵的部分位于所述封框胶与所述黑矩阵之间。

进一步地,所述黑矩阵位于所述封框胶面向所述彩膜基板的一侧,所述垫层位于所述封框胶面向所述阵列基板的一侧。

进一步地,还包括平坦层,所述平坦层对应垫层的部分位于所述封框胶与所述彩膜基板之间,所述平坦层对应黑矩阵的部分位于所述封框胶与所述黑矩阵之间。

进一步地,所述封框胶还包括位于所述第一部分内的支撑件,所述第一部分的厚度不小于所述支撑件的高度。

第二方面,本发明实施例还提供一种显示装置,包括如上所述的显示面板。

第三方面,本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法,应用于如上所述的显示面板,所述方法包括:

在所述彩膜基板上形成黑矩阵,所述黑矩阵位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间且位于显示区域外的周边区域;

在所述彩膜基板与所述阵列基板之间形成垫层和封框胶,所述垫层位于所述黑矩阵背离所述显示区域的一侧,所述封框胶包括对应所述垫层的第一部分和对应所述黑矩阵的第二部分,所述第一部分的厚度不大于所述第二部分的厚度。

进一步地,所述在所述彩膜基板与所述阵列基板之间形成垫层和封框胶的步骤,包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910466684.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top