[发明专利]一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法

权利要求书

1.一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法，其特征是，包括如下步骤：

(1)将用去离子水清洗干净的玻璃基体首先放入浓度为0.0001～10wt％的HF腐蚀槽内，并于20～80℃的温度条件下放置0.1～24h；

(2)将磷酸盐、碳酸盐和硅酸盐按摩尔百分比1～98％：1～98％：1～98％的比例混合，形成混合物；加水使混合物溶解，形成浓度为0.0001～10wt％的特制腐蚀液；

(3)将HF腐蚀处理后的玻璃基体用去离子水清洗干净，放入特制腐蚀液内，并于20～80℃的温度条件下放置0.1～48h；

(4)将腐蚀液腐蚀的玻璃基体用去离子水清洗干净，放入浓度为0.0001～10wt％的HF腐蚀槽内，并于20～80℃的温度条件下放置0.1～48h；

(5)将HF腐蚀处理后的玻璃基体用去离子水清洗干净，干燥处理，得到全波段减反射玻璃。

2.如权利要求1所述的一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法，其特征是，所述步骤(1)中的玻璃基体为采用压延法或浮法生产的光伏、光热、建筑或装饰用Na₂O-CaO-SiO₂体系玻璃。

3.如权利要求1所述的一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法，其特征是，所述步骤(2)中的磷酸盐为Na₂HPO₄，NaH₂PO₄，K₂HPO₄，KH₂PO₄，Na₃PO₄和K₃PO₄中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法，其特征是，所述步骤(2)中的碳酸盐是Na₂CO₃，NaHCO₃，K₂CO₃和KHCO₃中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法，其特征是，所述步骤(2)中的硅酸盐是Na₂SiO₃·9H₂O，Na₂SiO₃和K₂SiO₃中的一种或多种。

6.如权利要求1所述的一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法，其特征是，所述步骤(5)中干燥处理为：在干燥器中干燥、阴凉通风干燥或常温100～1000Pa的抽真空减压干燥，干燥至表面无悬挂水滴。

7.如权利要求1-6中任一项所述的一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法，其特征是，包括如下步骤：

(1)将玻璃基体表面用去离子水清洗干净，放入浓度为0.01～0.1wt％的HF溶液中，于30～50℃的温度条件下放置0.5～2h；

(2)将Na₂HPO₄、Na₂CO₃和Na₂SiO₃·9H₂O按摩尔百分比35～45％：35～45％：15～25％的比例混合，形成混合物；然后加水使混合物溶解，形成浓度为0.01～0.1wt％的特制腐蚀液；

(3)将HF溶液腐蚀处理后的玻璃基体用去离子水清洗干净，放入特制腐蚀液内，并于50～70℃的温度条件下放置12～48h；

(4)将腐蚀液腐蚀的玻璃基体用去离子水清洗干净，放入浓度为0.05～0.5wt％的HF腐蚀槽内，并于40～60℃的温度条件下放置2～12h；

(5)将HF腐蚀处理后的玻璃基体用去离子水清洗干净，干燥处理，得到太阳光全波段超低反射玻璃。

8.权利要求7所述的一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法制备的太阳光全波段超低反射玻璃，其特征是，反射率在300nm～2500nm波段范围内的反射率≤1％。