[发明专利]一种陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置

权利要求书

1.一种陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：包括运动定位装置、上模、下模和控制器，所述运动定位装置的固定端固定设置，所述运动定位装置的活动端与所述上模的上部连接，用于带动设置在所述上模下部的多个前驱体运动至设定位置，且所述上模位于所述下模的上方，所述下模用于固定放置于工作台上，所述下模上设置有多个加热槽，每个所述加热槽内设置有多个加热单元，所述下模和所述运动定位装置均与所述控制器电连接。

2.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：多个所述加热槽横向等间距固定设置在所述下模上。

3.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：每个所述加热槽内竖向等间距固定设置有多个所述加热单元。

4.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：所述加热单元包括坩埚、加热丝和热电偶，所述坩埚固定设置在所述加热槽内，所述加热丝固定缠绕在所述坩埚的外侧壁上，所述热电偶固定设置在所述坩埚内，所述加热丝和所述热电偶均与所述控制器电连接。

5.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：还包括隔热板，每个所述加热槽的在其自身长度方向的两侧均固定设置有隔热板。

6.根据权利要求5所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：所述隔热板为石棉隔热板。

7.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：所述加热槽为硅酸铝加热槽。

8.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：所述上模还包括夹持装置，所述夹持装置固定设置在所述上模的下部，用于夹持所述前驱体。

9.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：所述运动定位装置为气缸。

10.根据权利要求1所述的陶瓷/金属熔体反应的高通量制件装置，其特征在于：多个所述加热单元在所述下模上呈矩阵形式排列。