[发明专利]量子点墨水，量子点彩膜的制备方法及量子点彩膜

权利要求书

1.一种量子点墨水，按照重量分数计，包括：

量子点，0.01 wt%~50 wt%；

添加剂，0.1 wt%~20 wt%；

分散介质，30 wt%~99.89 wt%；所述分散介质包括有机溶剂、单体、树脂中的至少一种；所述有机溶剂包括烷烃类有机溶剂、芳香烃类有机溶剂、酯类有机溶剂、醚类有机溶剂、醇类有机溶剂中的至少一种；

其中，所述量子点和所述添加剂分散在所述分散介质中，所述添加剂为硅烷化试剂，所述量子点墨水通过打印方式获得量子点彩膜，在打印过程中或成膜后所述硅烷化试剂水解形成SiO₂，从而在量子点彩膜中原位生成SiO₂光扩粒子；

其中，所述硅烷化试剂包括正硅酸甲酯、正硅酸乙酯、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、N,O-双(三甲基硅烷基)乙酰胺、双(三甲基硅烷基)三氟乙酰胺、二甲基二氯硅烷、1,1,1,3,3,3-六甲基二硅烷、N-(特丁基二甲基硅烷基)-N-甲基三氟乙酰胺、特丁基二甲基氯硅烷、三甲基氯硅烷、三甲基硅烷基二乙胺、三甲基硅烷咪唑、长链烷基三甲氧基硅烷、长链烷基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的量子点墨水，其特征在于，所述量子点包括有机配体，所述有机配体包括碳原子数≥6的饱和或者不饱和胺、饱和或者不饱和酸、烷基膦中的至少一种。

3.一种量子点彩膜的制备方法，其特征在于，包括步骤：

S1、将量子点墨水打印在基板上；

S2、固化，形成所述量子点彩膜；其中，

所述量子点墨水选自为权利要求1~2中任一项所述的量子点墨水。

4.一种量子点彩膜，其特征在于，所述量子点彩膜由权利要求3所述的制备方法制得。

5.根据权利要求4所述的量子点彩膜，其特征在于，所述量子点彩膜包括：

量子点；

SiO₂；其中，

所述量子点与所述SiO₂的质量比范围为1：2000～500：1。

6.根据权利要求4所述的量子点彩膜，其特征在于，所述量子点彩膜包括量子点复合物，所述量子点复合物为SiO₂包覆的量子点。

7.根据权利要求4所述的量子点彩膜，其特征在于，所述量子点彩膜包括分散体，所述分散体为树脂。