[发明专利]一种根据规则添加SRAF的方法有效
申请号: | 201910477251.1 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN110187600B | 公开(公告)日: | 2022-10-25 |
发明(设计)人: | 高澎铮;韦亚一;张利斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F1/38;G03F7/20 |
代理公司: | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人: | 王胜利 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 根据 规则 添加 sraf 方法 | ||
本发明提供一种根据规则添加SRAF的方法,涉及半导体技术领域,可提高光刻分辨率。该方法包括:获取目标图形,并确定投影区域;根据投影区域选择SRAF规则,并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形;对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理;根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离,确定生长区域;去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分;根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽,在生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种根据规则添加SRAF的方法。
背景技术
随着版图图形尺寸的逐步缩小,在集成电路制造过程中,对光刻分辨率的要求也越来越高。
为了获得更高的光刻分辨率,需要对版图目标图形进行修正,同时在目标图形周围添加亚分辨率辅助图形(Sub Resolution Assist Feature,简称SRAF),以在曝光的过程中,使得与目标图形中排布较稀疏的部分对应的光刻胶接收到的光照强度,基本等于与目标图形中排布较密集的部分对应的光刻胶接收到的光照强度。
现有技术通常利用基于模型的方法或基于SRAF规则的方法,添加亚分辨率辅助图形。然而,对于一个芯片的设计来说,目标图形的数据过于庞大,利用基于模型的方法添加亚分辨率辅助图形过于耗时。因此,目前主要依赖基于SRAF规则的方法添加亚分辨率辅助图形。
对于现有的利用基于SRAF规则的方法添加亚分辨率辅助图形,是根据部分基于模型的方法,得到少量的用于测试的亚分辨率辅助图形,以及工程师的经验,从而提供一个添加亚分辨率辅助图形的规则菜单。再根据该规则菜单为整个目标图形添加亚分辨率辅助图形。
然而,这样添加的亚分辨率辅助图形会存在图像重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题。这些问题仍然会影响光刻分辨率。
发明内容
本发明提供一种根据规则添加SRAF的方法,可提高光刻分辨率。
为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:
提供一种根据规则添加SRAF的方法,包括:获取目标图形,并确定投影区域;目标图形包括多个子目标图形;根据投影区域选择SRAF规则,并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形。
对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理,以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上。
根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离,确定生长区域;生长区域位于子目标图形的两端、且和与其对应的子目标图形邻接。
去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分。
根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽,在生长区域内形成第二亚分辨率辅助图形;每个生长区域内设有一个第二亚分辨率辅助图形;每个第二亚分辨率辅助图形与子目标图形的一端对应,第二亚分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形的一端正对设置,且其延伸方向和与其对应的子目标图形的一端的线宽方向平行;第二分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形正对设置。
可选的,在形成第二亚分辨率辅助图形之后,添加SRAF的方法还包括:对第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分进行冲突清理,以去除第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分,或者,以将第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分放大;其中,放大后的第一亚分辨率辅助图形与第二亚分辨率辅助图形和其他第一亚分辨率辅助图形之间的距离大于或等于第三预设距离。
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