[发明专利]一种隐身薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201910478388.9 | 申请日： | 2019-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN110275228B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 郭晓康;郭春才;张志良;朱小军;徐承进 | 申请（专利权）人： | 合肥昊泰新材料科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 汪贵艳 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市经开区桃花工*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 隐身 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种隐身薄膜，其特征在于，其由内至外依次为基材、内介质层、反射层和外介质层，其中，所述外介质层为具有高折射率的氧化物，其折射率为2.0～3.0，所述具有高折射率的氧化物是ZnO、Nb2O5、Ta2O5、TiO2中的一种；所述内介质层为具有低折射率的氧化物，其折射率为1.0～1.8，所述具有低折射率的氧化物是Al2O3、SiO2中的一种；
所述隐身薄膜在可见光波段0.38～0.76μm平均透射率为85％～90％，最大透过率为96％；
在近红外波段0.76～1.2μm平均反射率为72％～76％；
在短波红外波段1.2～2.5μm平均反射率为84％～88％；
在中远红外波段3～5μm和8～14μm平均反射率为92％～97％。
2.如权利要求1所述的隐身薄膜，其特征在于，所述基材为玻璃、高分子材料中的一种。
3.如权利要求2所述的隐身薄膜，其特征在于，所述高分子材料为PET、TPU、PVC、BOPP、PI透明薄膜中的一种。
4.如权利要求1所述的隐身薄膜，其特征在于，所述外介质层的厚度为10nm～70nm。
5.如权利要求1所述的隐身薄膜，其特征在于，所述内介质层的厚度为10nm～70nm。
6.如权利要求1所述的隐身薄膜，其特征在于，所述反射层由Ag、Al、Au、Cu中的一种或两种以上混合构成，所述反射层的厚度为10～30nm。
7.一种如权利要求1～6任一项所述的隐身薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用镀膜技术在所述基材上依次沉积所述内介质层、所述反射层和所述外介质层，制得所述隐身薄膜。
8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述镀膜技术为热蒸发镀膜或磁控溅射真空镀膜。
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