[发明专利]一种由SiO2 有效
申请号: | 201910478405.9 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN111100155B | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 李志芳;杨新瑜 | 申请(专利权)人: | 杭州师范大学 |
主分类号: | C07F7/07 | 分类号: | C07F7/07 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 王江成 |
地址: | 310015 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 sio base sub | ||
1.一种由SiO2直接制备四配位和五配位硅氧烷的合成方法,其特征在于,所述的合成方法为:将二氧化硅置于乙二醇中,在有机碱的催化下,75~95℃下反应一定时间,随后减压蒸馏除去过量的乙二醇并得到白色固体,用甲醇溶解后过滤除去未反应完全的二氧化硅,向滤液中加入乙腈,过滤得到白色沉淀,将沉淀干燥后得到最终的四配位和五配位硅氧烷产品;
所述的有机碱选自甲醇钠、乙醇钠或叔丁醇钾中的一种;其中,当有机碱为甲醇钠时,最终得到的产物为五配位硅氧烷;当有机碱为乙醇钠或叔丁醇钾时,最终得到的产物为四配位和五配位硅氧烷的混合物;所述的四配位(I)和五配位硅氧烷(Ⅱ)具有如下所述的结构式:
式中,M选自Na、K中一种。
2.根据权利要求1所述的一种由SiO2直接制备四配位和五配位硅氧烷的合成方法,其特征在于,所述的二氧化硅为气相白炭黑、沉淀白炭黑或者天然石英粉中的一种或多种混合物。
3.根据权利要求1或2所述的一种由SiO2直接制备四配位和五配位硅氧烷的合成方法,其特征在于,所述的二氧化硅的目数为200~3000目。
4.根据权利要求1所述的一种由SiO2直接制备四配位和五配位硅氧烷的合成方法,其特征在于,所述的二氧化硅与有机碱的摩尔比为1:1~1.5。
5.根据权利要求1所述的一种由SiO2直接制备四配位和五配位硅氧烷的合成方法,其特征在于,所述反应时间为0.5~2小时。
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