[发明专利]一种微型光谱测试系统及测试方法

权利要求书

1.一种微型光谱测试系统，其特征在于，包括光束准直模块和光电探测模块，其中被测光由光束准直模块进行准直然后投射到光电探测模块；

所述光电探测模块包括可旋转的半导体基底层和覆盖在半导体基底层上的金属或类金属材料薄膜，光电探测模块向光面制备成光栅；

光电探测模块向光面光栅的制备方法为：在半导体基底层上形成光栅后涂覆金属或类金属材料薄膜；或者在半导体基底层上涂覆金属或类金属材料薄膜，并在金属或类金属材料薄膜上形成光栅；或者在未形成光栅的半导体基底层上依次涂覆金属或类金属材料薄膜、非金属材料层，再在非金属材料层上形成非金属材料光栅；

所述光栅的周期大于等于微型光谱测试系统工作波长范围中心波长的0.2倍，小于微型光谱测试系统工作波长范围中心波长；所述光栅的厚度为中心波长的0.02倍~0.2倍；

光电探测模块的半导体基底层在电压控制下相对入射光方向转动，改变入射角。

2.根据权利要求1所述的微型光谱测试系统，其特征在于，所述光栅为一维或二维光栅。

3.根据权利要求1所述的微型光谱测试系统，其特征在于，所述金属包括金、铂、银、铜、铝和钛中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的微型光谱测试系统，其特征在于，所述类金属材料包括石墨烯、氮化钛、氮化锆、铟锡氧化物和氧化锌中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的微型光谱测试系统，其特征在于，所述非金属材料包括二氧化硅、氮化硅、氧化铝、氧化铪、氟化镁和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的微型光谱测试系统，其特征在于，所述金属或类金属材料薄膜的厚度小于200纳米。

7.一种光谱测试方法，基于权利要求1-6任一项所述的微型光谱测试系统，其特征在于，包括步骤：

准直待测光谱的光束；

在外加电压的控制下转动光电探测模块相对入射光方向转动，改变入射角；

扫描入射角，测试并记录并分析每个转动角度对应输出的电信号，对应于光谱中波长的光强信息，实现待测光谱中各个波长光的光强信息测试。