[发明专利]片式元件、其表面处理系统及表面处理工艺

说明书

本发明公开了一种片式元件、其表面处理系统及表面处理工艺，用于解决片式元件在回流焊工艺中容易出现位移、墓碑、跳片现象的技术问题。本片式元件包括元件本体，以及附着在所述元件本体的、用于与线路板上的焊盘焊接的金属复合层，从内到外所述金属复合层依次包括银或铜层、镍镀层及锡镀层，所述锡镀层的表面具有保护膜层。所述系统包括用于成膜前处理的化学清洗设备、第一冲洗设备及第一浸泡设备；成膜设备；用于成膜后处理的第二冲洗设备、漂洗设备、第二浸泡设备及烘干设备。所述方法包括首先对片式元件化学清洗使其锡镀层修复；接下来用水清洗去除残留的化学清洗液；然后通过热浸镀法在锡镀层的表面形成保护膜层；最后再次清洗并烘干。

技术领域

本发明涉及片式元件、片式元件的表面处理系统及表面处理工艺，更具体地说，是一种可防止回流焊时产生位移、墓碑及跳片现象的片式元件，以及用于片式元件的、以防止片式元件在回流焊工艺中产生位移、墓碑及跳片现象的表面处理系统及表面处理工艺。

背景技术

常见的片式元件包括电容、电阻、电感等。片式元件的尺寸规格从0805型或者更大尺寸规格逐渐发展到0603型、0402型、0201型、01005型…，逐渐向小型化发展。

小型化的片式元件在回流焊时有时会出现位移、墓碑、跳片等现象，造成焊性不良。经过研究发现，造成上述焊性不良的原因是片式元件端头的锡镀层受到了污染、氧化或者有划擦伤，导致在回流焊工艺中润湿力不平衡。

在上述研究的基础上，发明了一种表面处理工艺及表面处理系统，通过该表面处理工艺及表面处理系统改变片式元件的构造，可以避免片式元件在回流焊工艺中出现位移、墓碑、跳片等现象。基于此提出了本专利申请。

发明内容

本发明的第一目的是提供一种片式元件，以解决片式元件在回流焊工艺中容易出现位移、墓碑、跳片现象的技术问题。

本发明的第二目的是提供一种表面处理系统，以解决片式元件在回流焊工艺中容易出现位移、墓碑、跳片现象的技术问题。

本发明的第三目的是提供一种表面处理工艺，以解决片式元件在回流焊工艺中容易出现位移、墓碑、跳片现象的技术问题。

为达上述第一目的，本发明提供的一种片式元件包括元件本体，以及附着在所述元件本体的、用于与线路板上的焊盘焊接的金属复合层，从内到外所述金属复合层依次包括银或铜层、镍镀层及锡镀层，其中，所述锡镀层的表面具有保护膜层，所述保护膜层的气化温度低于所述回流焊工艺的温度。

优选地，所述保护膜层的气化温度介于100摄氏度至230摄氏度之间。

为达上述第二目的，本发明提供的一种表面处理系统用于处理片式元件，防止片式元件在回流焊工艺中产生位移、墓碑及跳片现象，所述表面处理系统包括：用于对片式元件化学清洗、以修复其锡镀层的化学清洗设备；用于对化学清洗后的片式元件进行水冲洗处理的第一冲洗设备；用于对水冲洗后的片式元件进行水浸泡的第一浸泡设备；用于对水浸泡后的片式元件热浸镀成膜的成膜设备；用于对成膜后的片式元件进行水冲洗的第二冲洗设备；用于对成膜并冲洗后的片式元件进行水漂洗的漂洗设备；用于对水漂洗后的片式元件进行酒精浸泡的第二浸泡设备；以及用于对酒精浸泡后的片式元件进行烘干的烘干设备。

优选地，所述化学清洗设备为超声清洗机。

优选地，所述成膜设备为超声清洗机。

优选地，所述烘干设备的工作温度介于70摄氏度至120摄氏度之间可调。

优选地，所述第一冲洗设备、所述第一浸泡设备、所述第二冲洗设备和所述漂洗设备均包括水槽。