[发明专利]按键结构在审
申请号: | 201910483328.6 | 申请日: | 2019-06-04 |
公开(公告)号: | CN110137013A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 谢铭元;赵令溪;叶亮达 | 申请(专利权)人: | 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司 |
主分类号: | H01H13/20 | 分类号: | H01H13/20;H01H13/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 键帽 活动件 枢转部 底板 按键结构 连动支架 底板移动 第一位置 升降机构 磁吸部 磁吸件 磁吸力 突台 按压 收纳 弹性构件 弹性结构 第二位置 滑动设置 连接底板 下方位置 影响弹性 永久变形 回复力 可旋转 移动 下沉 驱动 脱离 | ||
1.一种按键结构,其特征在于包含:
底板;
键帽,设置于该底板之上;
升降机构,连接至该底板及该键帽之间,该键帽能通过该升降机构以相对于该底板沿着垂直方向移动;
活动件,相对于该底板沿着水平方向可移动地设置,该活动件包含活动板体与突台,该突台自该活动板体表面向上突出;
连动支架,具有枢转部、磁吸部及驱动部,该磁吸部及该驱动部位于该枢转部的两侧,该连动支架以该枢转部可旋转地设置于该突台上,该驱动部抵靠该升降机构及该键帽其中之一;以及
磁吸件,设置于该底板上,该磁吸部与该磁吸件间产生磁吸力;
其中,当该活动件位于第一位置时,该磁吸件位于该磁吸部的下方,且该磁吸力经由该连动支架以驱使该键帽远离该底板;以及
当该活动件自该第一位置水平移动至第二位置时,该突台远离该枢转部的下方位置,该枢转部脱离该突台并朝下移动,以使该键帽朝向该底板移动。
2.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于:该突台具有顶面及导引斜面,该枢转部具有圆弧表面,当该活动件自该第二位置水平移动至该第一位置时,该导引斜面引导该圆弧表面自该活动板体表面向上滑动回到该顶面上。
3.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于:该底板包含限位结构,当该活动件位于该第一位置时,该枢转部卡入该限位结构,当该活动件位于该第二位置时,该枢转部脱离该限位结构。
4.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于:当该活动件位于该第一位置且该键帽未被按压时,该磁吸部线接触该磁吸件;或者,该磁吸部与该磁吸件分隔设置。
5.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于:该连动支架底面具有让位槽,当该活动件位于该第二位置时,该突台进入该让位槽,以降低该枢转部与该突台叠合后的高度。
6.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于:该按键结构进一步包含开关,该开关设置于该活动件上,其中当该活动件位于该第一位置时,该开关位于该连动支架下方,且当该活动件位于该第二位置时,该开关远离该连动支架沿该垂直方向向下的投影区域。
7.根据权利要求6所述的按键结构,其特征在于:该连动支架具有触发部,当该活动件位于该第一位置且该键帽被按压时,该触发部触发该开关。
8.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于:该升降机构包含相互枢接的第一支架及第二支架,该键帽能通过该第一支架及该第二支架以相对于该底板垂直移动,该第一支架以第一上端部与该键帽连接且该第一支架以第一下端部与该底板连接,该第二支架以第二上端部与该键帽连接且该第二支架以第二下端部与该底板连接。
9.根据权利要求8所述的按键结构,其特征在于:该第一支架包含滑槽,该滑槽沿延伸方向延伸,该延伸方向由该第一下端部指向该第一上端部,该活动件包含滑勾,于该活动件自该第一位置移动至该第二位置的过程中,该滑勾于该滑槽内滑动并对该滑槽施力以使该第一支架朝向该底板旋转,进而降低该第一上端部高度。
10.根据权利要求9所述的按键结构,其特征在于:该滑槽具有槽底面,该槽底面沿朝向该底板偏离该延伸方向的方向延伸,于该活动件自该第一位置移动至该第二位置的过程中,该滑勾朝向该第一下端部滑动于该槽底面上。
11.根据权利要求9所述的按键结构,其特征在于:该第一支架及该第二支架相对于旋转轴向枢接,
该驱动部抵靠邻近该第二支架的该第二上端部处,该滑槽及该驱动部于该垂直方向的投影位于该旋转轴向的同一侧;或者,该驱动部抵靠该键帽,该滑槽及该驱动部于该垂直方向的投影位于该旋转轴向的相对两侧。
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