[发明专利]一种双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种双银低辐射镀膜玻璃，包括依次叠合的玻璃基片和金属膜层，其特征在于，玻璃基片(1)；

第一膜层(2)，位于玻璃基片(1)的表面，所述第一膜层(2)为硅铝合金膜；

第二膜层(3)，位于所述第一膜层(2)的表面，所述第二膜层(3)为锌铝合金膜；

第三膜层(4)，位于所述第二膜层(3)的表面，所述第三膜层(4)为银膜；

第四膜层(5)，位于所述第三膜层(4)的表面，所述第四膜层(5)为镍铬合金膜；

第五膜层(6)，位于所述第四膜层(5)的表面，所述第五膜层(6)为氧化锌铝合金膜；

第六膜层(7)，位于所述第五膜层(6)的表面，所述第六膜层(7)为硅铝合金膜；

第七膜层(8)，位于所述第六膜层(7)的表面，所述第七膜层(8)为锌铝合金膜；

第八膜层(9)，位于所述第七膜层(8)的表面，所述第八膜层(9)为银膜；

第九膜层(10)，位于所述第八膜层(9)的表面，所述第九膜层(10)为镍铬合金膜；

第十膜层(11)，位于所述第九膜层(10)的表面，所述第十膜层(11)为硅铝合金膜；

第十一膜层(12)，位于所述第十膜层(11)的表面，所述第十一膜层(12)为锆合金膜；

所述第一膜层(2)的厚度为46.0-49.0nm；所述第二膜层(3)的厚度为25.0-27.0nm；所述第三膜层(4)的厚度为6.0-7.0nm；所述第四膜层(5)的厚度为5.5-6.2nm；所述第五膜层(6)的厚度为22.0-25.0nm；所述第六膜层(7)的厚度为80.0-83.0nm；所述第七膜层(8)的厚度为44.0-46.0nm；所述第八膜层(9)的厚度为11.8-12.5nm；所述第九膜层(10)的厚度为2.8-3.5nm；所述第十膜层(11)的厚度为40.0-45.0nm；所述第十一膜层(12)的厚度为20.0-30.0nm；在所述玻璃基片(1)的一个表面自下而上依次叠合第一硅铝合金膜层、第二锌铝合金膜层、第三银膜层、第四镍铬合金膜层、第五氧化锌铝合金膜层、第六硅铝合金膜层、第七锌铝合金膜层、第八银膜层、第九镍铬合金膜层、第十硅铝合金膜层、第十一锆合金膜层；所述双银低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下顺序进行的步骤：

1)烧结靶材

将硅铝合金、锌铝合金、镍铬合金、银、氧化锌铝合金分别烧结在玻璃镀膜机的真空溅射室的靶位上，备用；

2)玻璃的预处理

将待镀膜处理的玻璃置于真空状态下，对待镀膜处理的玻璃进行排湿、脱气处理，降低玻璃表面沉积的水分和气体，制得排湿、脱气玻璃；

3)镀膜处理

将排湿、脱气玻璃送入玻璃镀膜机的真空磁控溅射室内，在排湿、脱气玻璃的表面自下而上依次镀覆第一硅铝合金膜；第二锌铝合金膜；第三银膜；第四镍铬合金膜；第五氧化锌铝合金膜；第六硅铝合金膜；第七锌铝合金膜；第八银膜；第九镍铬合金膜；第十硅铝合金膜；第十一锆合金膜，所述第一硅铝合金膜层分两次镀覆处理而成，所述第六硅铝合金膜层分三次镀覆处理而成，所述第七锌铝合金膜层分两次镀覆处理而成，所述第十硅铝合金膜层分三次镀覆处理而成。

2.根据权利要求1所述的一种双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，步骤2)中所述排湿、脱气处理是将待镀膜玻璃分2个处理阶段降低玻璃表面沉积的水分和气体，制得所述的排湿、脱气玻璃。

3.根据权利要求2所述的一种双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述排湿、脱气处理过程中第一处理阶段中的绝对压力高于第二处理阶段中的绝对压力。

4.根据权利要求3所述的一种双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第1处理阶段过程中的绝对压力5.0-6.0×10^－2mbar；第2处理阶段过程中的绝对压力为3.0-6.0×10^-3mbar。

5.根据权利要求4所述的一种双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，还包括步骤4)缓冲处理，将经过镀膜处理的玻璃从真空磁控溅射室输送至压力缓冲室内，逐渐提高缓冲室内的压力，直至达到常压；降低缓冲室内的温度，使室内温度达20-35℃。