[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法在审

专利信息
申请号: 201910486814.3 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN111383947A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 吉水康人;北川白马;守田峻海 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/673;H01L21/68;H01L21/02
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 衬底 处理 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种衬底处理装置,具有:台,载置衬底,将所述衬底连接于阳极;对向电极,以与所述台对向的方式配置,具有多个孔,且与阴极连接;及保持部,以介隔所述对向电极而与所述台对向的方式配置,一面保持所述对向电极一面对所述对向电极供给药液。

2.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中所述台与所述保持部同步旋转。

3.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置,其中所述对向电极为板状。

4.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置,其中所述对向电极为毛状体或网状体。

5.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中所述衬底与所述对向电极为非接触。

6.根据权利要求4所述的衬底处理装置,其中作为所述毛状体或所述网状体的多个所述对向电极是相互分离地配置,且所述多个对向电极从旋转中心以放射状分散配置。

7.一种衬底处理方法,将衬底载置在台上,将所述衬底连接于阳极,将具有多个孔且与阴极连接的对向电极以与所述台对向的方式配置,且一面利用以介隔所述对向电极而与所述台对向的方式配置的保持部保持所述对向电极,一面从所述保持部对所述对向电极供给药液。

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