[发明专利]一种磁瓦外观缺陷检测结构在审
申请号: | 201910486994.5 | 申请日: | 2019-06-05 |
公开(公告)号: | CN110108725A | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 汤培欢 | 申请(专利权)人: | 深圳至汉装备科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/88 |
代理公司: | 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 | 代理人: | 赵红霞 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁瓦 弧形罩 相机 外观缺陷检测 磁瓦表面 环形光源 平行光源 直射灯 漫射 光照方式 光轴方向 光轴平行 后续图像 缺陷分析 缺陷位置 上下两端 直射光源 反射镜 光反射 上表面 无光照 重合 光强 内壁 入射 同轴 开口 死角 照射 垂直 摆放 图像 拍摄 检测 | ||
本发明提供了一种磁瓦外观缺陷检测结构,包括用于拍摄磁瓦图像的相机,在所述相机与待检测的磁瓦之间布置有同轴的直射灯和漫射灯,所述直射灯包括由垂直于所述相机的光轴方向入射的平行光源,以及将平行光源发出的光反射为与所述相机的光轴平行且重合的反射镜;所述漫射灯包括上下两端分别开口的弧形罩,安装在所述弧形罩底部且向所述弧形罩内壁方向照射的环形光源。本发明通过本方案设置的光照方式,能够使当前摆放的磁瓦四周及上表面完全无光照死角,且可避免直射光源与环形光源之间的相互影响,使整个磁瓦表面的光强一致,能够更突出磁瓦表面的缺陷位置,加快和提高后续图像缺陷分析速度和精度。
技术领域
本发明涉及磁瓦检测领域,特别涉及一种在对磁瓦进行外观缺陷检测时提供无死角光照效果的检测结构。
背景技术
现有技术在对磁瓦表面进行缺陷检测时,通常是利用单一光源或多个光源的照明方式来对待检测的磁瓦表面进行照明,采用单一光源时容易在磁瓦的逆光面形成阴影,从而降低相机拍摄的磁瓦表面图像质量,导致后期图像分析时误差较大。采用多个光源时,各光源相互之间由于直射原因,在磁瓦的直接照射点处的光强较大,而周围光强较弱,使得明亮度不五,同样会影响后期的图像分析。
发明内容
本发明的目的是要提供一种在对磁瓦进行外观缺陷检测时,能够提供无死角光照效果的检测结构。
特别地,本发明提供了一种磁瓦外观缺陷检测结构,包括用于拍摄磁瓦图像的相机,在所述相机与待检测的磁瓦之间布置有同轴的直射灯和漫射灯,所述直射灯包括由垂直于所述相机的光轴方向入射的平行光源,以及将平行光源发出的光反射为与所述相机的光轴平行且重合的反射镜;所述漫射灯包括上下两端分别开口的弧形罩,安装在所述弧形罩底部且向所述弧形罩内壁方向照射的环形光源。
在本发明的一个实施方式中,所述直射灯还包括矩形壳体,所述矩形壳体的相对两端分别开有供相机取景用的拍摄孔和出光孔,所述平行光源安装在所述拍摄孔和所述出光孔之间的侧壁处,所述反射镜的一端位于所述出光孔远离所述平行光源的一侧,相对的另一端向所述平行光源方向倾斜且越过所述拍摄孔。
在本发明的一个实施方式中,所述平行光源与所述反射镜之间设置有垂直于所述相机的光轴且具备聚光效果的光学透镜。
在本发明的一个实施方式中,所述弧形罩的顶部开口与所述矩形壳体的出光孔连接,所述弧形罩的底部相对的位置处设置有供所述磁瓦进入和离开的凹口。
在本发明的一个实施方式中,5.根据权利要求1所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,
所述弧形罩的底部安装有向中心线方向延伸的环形槽,所述环形光源安装在所述环形槽内。
在本发明的一个实施方式中,在所述环形槽的底部安装有对所述环形光源进行散热的导热层。
在本发明的一个实施方式中,所述矩形壳体与所述弧形罩通过中间带有孔洞的连接件连接。
在本发明的一个实施方式中,所述连接件包括矩形且中心带有孔洞的固定板,在所述孔洞的相对两侧边分别设置有向同一侧垂直伸出的调节板,在所述固定板上与所述调节板相对的一侧安装有两块相对布置的L形吊装板,两块所述L形吊装板的折边相对且相对的折边围成一个圆形空心。
在本发明的一个实施方式中,还包括固定所述相机和所述连接件的矩形框架,所述相机通过相机架吊装在所述固定框架的上部,所述连接件通过固定板的四周侧边与所述固定框架连接。
在本发明的一个实施方式中,所述相机架包括一块矩形且中心带有取景孔的搭接板,在所述取景孔的相对两侧垂直固定有具备调节槽的固定块,在两块所述固定块之间通过调节槽安装有固定相机的吊框。
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