[发明专利]一种阵列基板及其形成方法以及显示面板有效

专利信息
申请号: 201910487173.3 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN110176444B 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 周秀峰;伍黄尧;赖国昌;周洪波 申请(专利权)人: 厦门天马微电子有限公司
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L27/12;G02F1/1362
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 361101 福建*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 形成 方法 以及 显示 面板
【说明书】:

发明提供一种阵列基板的其制作方法,包括:形成第一导电层,图案化第一导电层,形成多个第一器件部和多个连接部,多个连接部将多个第一器件部相互连接在一起;在图案化的第一导电层上层形成绝缘层,图案化绝缘层形成断开孔,断开孔位于连接部上;在图案化的绝缘层上层形成第二导电层,第二导电层还形成在断开孔中;图案化第二导电层,形成多个第二器件部,同时去除断开孔中的第二导电层和断开孔下的连接部。在本发明中,在形成位于多个第一器件部的同时,还形成多个将第一器件部相互连接在一起的连接部,使得多个第一器件部都是同一电位,不存在压差,不会发生彼此间的静电放电,避免了第一器件部的静电损伤。

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其形成方法,还涉及包含该阵列基板的显示面板。

【背景技术】

液晶显示面板、有机发光显示面板都是常见的显示装置,都包括有阵列基板,阵列基板设置有由多层导电层层叠组成的器件,比如薄膜晶体管或者电容等器件。在阵列基板的制造流程中,经常会出现静电损伤的情况,如同一导电层的各器件部因是相互独立的,其积累的静电量不同而造成电压不同,从而造成相互之间放电的击伤。

【发明内容】

有鉴于此,本发明提供一种阵列基板的制作方法,包括:形成第一导电层,图案化所述第一导电层,形成多个第一器件部和多个连接部,所述多个连接部将所述多个第一器件部相互连接在一起;在所述图案化的第一导电层上层形成绝缘层,图案化所述绝缘层形成断开孔,所述断开孔位于所述连接部上;在所述图案化的绝缘层上层形成第二导电层,所述第二导电层还形成在所述断开孔中;图案化所述第二导电层,形成多个第二器件部,同时去除所述断开孔中的第二导电层和所述断开孔下的连接部。

本发明还提供一种阵列基板,包括:第一导电层,所述第一导电层包括多个第一器件部,所述多个第一器件部之间包括断开部分;位于所述第一导电层上的绝缘层,所述绝缘层内包括断开孔;位于所述绝缘层上的第二导电层,所述第二导电层包括多个第二器件部;位于所述第二导电层上的平坦化层,所述平坦化层覆盖所述第二导电层并且覆盖并填充所述断开孔和所述多个第一器件部之间的断开部分。本发明还提供包括上述阵列基板的显示面板。

本发明提供的阵列基板及其形成方法,以及包括该阵列基板的显示面板,其在形成位于第一导电层的多个第一器件部的同时,还形成多个将第一器件部相互连接在一起的连接部,使得多个第一器件部都是同一电位,不存在电位差,不会发生彼此间的静电放电,避免了第一器件部的静电损伤,提高了阵列基板的制程良率。并且在刻蚀第一器件部的同时形成连接部,然后通过在刻蚀图案化第二导电层时将连接部刻蚀去除,没有增加单独的工艺制程。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本发明实施例提供的阵列基板的制作方法的步骤图;

图2为阵列基板的示意图;

图3为本发明实施例的步骤1中图案化的第一导电层的俯视图;

图5为本发明实施例的步骤2中膜层结构的俯视图;

图6为图5中沿BB'截面的剖面结构示意图;

图7为本发明实施例的步骤3中形成第二导电层的示意图;

图8为本发明实施例的步骤4中图案化第二导电层的示意图;

图9为本发明实施例的图案化第二导电层后并去除了光刻胶层的膜层结构的俯视图;

图10为本发明另一实施例的步骤1中形成第一导电层的示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门天马微电子有限公司,未经厦门天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910487173.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top