[发明专利]滤光片以及制造滤光片的方法

权利要求书

1.一种滤光片，其特征在于，包括：基底，所述基底包括相对的第一面和第二面；所述基底的第一面外侧设置有第一膜堆，所述基底的第二面外侧设置有第二膜堆；

其中，所述第一膜堆包括交叠设置的第一膜层和第二膜层，所述第一膜层的折射率大于所述第二膜层的折射率，所述第一膜层的物理厚度为h₁，所述第二膜层的物理厚度为h₂，一对相邻的所述第一膜层和所述第二膜层具有物理厚度比a，a＝h₁/h₂；

所述第一膜堆包括至少三对相邻的第一膜层和第二膜层的物理厚度比a满足0.7≤a<2.2，且所述第一膜堆包括至少两对相邻的第一膜层和第二膜层的物理厚度比a满足5.5<a；

所述第一膜堆的厚度不大于6μm。

2.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述滤光片的最大翘曲面的直径大于180mm。

3.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述滤光片的最大翘曲面的直径大于800mm。

4.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于，全部所述第一膜层的厚度之和不大于3.6μm。

5.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述第一膜层的材料为氢化硅，所述第一膜层对应800nm至1200nm波长范围的折射率不小于3且不大于5，并且所述第一膜层的消光系数小于0.002。

6.根据权利要求5所述的滤光片，其特征在于，所述第一膜层对应850nm处的折射率大于3.6，并且对应940nm波长处的折射率大于3.55。

7.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述第一膜层的材料为氢化锗，所述第一膜层对应800nm至1200nm波长范围的折射率大于3.5。

8.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述滤光片对应800nm～1200nm波长范围的平均透过率不小于90％，所述滤光片对应350nm～790nm波长范围的平均透过率小于0.1％。

9.根据权利要求1或8所述的滤光片，其特征在于，所述滤光片的通带的平均透过率不小于93％。

10.根据权利要求1所述的滤光片，其特征在于，所述第二膜堆的厚度不大于6μm，所述第二膜堆包括交叠设置的第三膜层和第四膜层，所述第三膜层的折射率大于所述第四膜层的折射率。

11.根据权利要求10所述的滤光片，其特征在于，所述滤光片的总厚度小于12μm。

12.根据权利要求10所述的滤光片，其特征在于，所述第一膜层的材料、所述第二膜层的材料、所述第三膜层的材料和所述第四膜层的材料分别包括掺硼氢化硅、掺硼氢化锗、掺氮氢化硅、掺氮氢化锗、掺磷氢化硅、掺磷氢化锗、Si_x1Ge_1-x1、Si_x2Ge_1-x2：H、SiO₂、Si₃N₄、SiO_yN_z、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、Al₂O₃、SiCN和SiC中的一种或多种的混合物。

13.根据权利要求10所述的滤光片，其特征在于，所述第一膜堆为窄带通膜堆，所述第二膜堆为长波通膜堆或宽带通膜堆。