[发明专利]一种抗炎祛痘护肤乳液在审

专利信息
申请号: 201910490632.3 申请日: 2019-06-06
公开(公告)号: CN110101587A 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 陶华 申请(专利权)人: 广州市裕朝化妆品有限公司
主分类号: A61K8/34 分类号: A61K8/34;A61K8/35;A61K8/37;A61K8/41;A61K8/49;A61K8/67;A61K8/73;A61K8/891;A61K8/92;A61K8/9789;A61Q17/00;A61Q19/00;A61Q19/08
代理公司: 广州市深研专利事务所 44229 代理人: 张喜安
地址: 510000 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 祛痘 肌肤 护肤乳液 抗炎 胶原蛋白合成 黑色素合成 化妆品领域 皮脂腺活性 角质 肌肤弹性 肌肤细胞 血液循环 重量份数 痤疮杆菌 保湿剂 抵抗力 黑眼圈 角质层 抗氧化 柔润剂 乳化剂 抑菌剂 增稠剂 螯合剂 痘印 活化 精油 控油 毛囊 乳液 水油 细纹 修护 组份 阻塞 刺激 调控 平衡 恢复
【说明书】:

一种抗炎祛痘护肤乳液,涉及化妆品领域,该乳液的组份及各组份的重量份数为:保湿剂5.7‑12.5份,增稠剂0.1‑0.5份,柔润剂6‑10份,抑菌剂0.2‑0.7份,祛痘剂4.1‑9.4份,螯合剂0.1‑0.5份,乳化剂1.5‑3份,PH调节剂0.1‑0.3份,精油0.011‑0.15份,余量为水。本发明中的护肤乳液具有控油与祛痘双重修护的功效,它具有深层调控水油平衡、增加角质层水分、提高肌肤弹性及活化肌肤细胞、减少肌肤细纹、抑制皮脂腺活性及黑色素合成、促进胶原蛋白合成及血液循环、改善黑眼圈、温和祛除角质、打开阻塞的毛囊、杀灭痤疮杆菌并有效的抗炎抗氧化,从根本上消除痘印及肌肤炎症,疗效短,恢复快,对肌肤无刺激作用并增加肌肤的抵抗力。

技术领域:

本发明涉及化妆品领域,具体涉及一种抗炎祛痘护肤乳液。

背景技术:

青春痘,在医学上称为“痤疮”,多发于青春期,故称为“青春痘”,它是由于生理条件、生活习惯等因素而造成。痤疮是当今社会大多数青年男女常见的皮肤顽疾,多发于脸部皮肤,所以在生理和心理上给很多青年男女造成了一定的影响和危害,特别对于爱美人士,更是心底的一道伤痕。此外,青春期长达10年之久,患有青春痘的青年男女正是由于青春痘对人们的种种危害,加之每个人都会有10年左右的青春期,因此市场上对祛痘产品的研发和生产需求日益扩大,关于祛痘产品的功效也成为了当下人们更关心的问题。

近年来,祛痘方面的化妆品的种类五花八门,但是祛痘效果均一般,无法从根本上根治青春痘,甚至由于某些祛痘化妆品含有微量的激素,初始使用时祛痘效果好,使用一段时间后会复发,复发后的青春痘更加难以治疗,含有激素类的化妆品影响人体身体正常的新陈代谢,会造成脸部皮肤受损或者变得脆弱,无法有效抵御外部有害菌的感染。因此,亟需研发一款能够从根本上治疗青春痘并能避免青春痘复发的抗炎祛痘护肤乳液。

发明内容:

本发明的目的是为了克服上述现有技术存在的不足之处,而提供一种抗炎祛痘护肤乳液。

本发明采用的技术方案为:一种抗炎祛痘护肤乳液,该乳液的组份及各组份的重量份数为:保湿剂5.7-12.5份,增稠剂0.1-0.5份,柔润剂6-10份,抑菌剂0.2-0.7份,祛痘剂4.1-9.4份,螯合剂0.1-0.5份,乳化剂1.5-3份,PH调节剂0.1-0.3份,精油0.011-0.15份,余量为水。抑菌剂的成分为辛酰羟肟酸、1,2-戊二醇、丙二醇,抑菌剂直接购买,生产厂家为:日本艾卓公司。抑菌剂中的成分也可以按照同样重量份数混合进行配置。水的用量可以达到使整个乳液配方的浓度符合化妆品的要求为准,优选的,水的用量为40-60份。

优选的,所述的保湿剂的组份及各组份的重量份数为:甘油2-4份,丁二醇2-4份,聚二甲基硅氧烷1-3份,1,2-己二醇0.5-1.0份,生育酚0.2-0.5份。

优选的,所述的增稠剂选自黄原胶、卡波姆、硬葡聚糖胶、芦荟胶、藻酸盐、麦芽糖糊精、瓜耳树胶、羟丙基瓜耳树胶中的任意一种或任意两种或两种以上的混合物。

优选的,所述的柔润剂的组份及各组份的重量份数为:异壬酸异壬酯3-5份,辛酸/癸酸甘油三酯3-5份。

优选的,所述的螯合剂选自对羟基苯乙酮、EDTA、羟基乙烷二膦酸、乙二胺四乙酸二钠盐中的一种或任意两种或两种以上的混合物。

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