[发明专利]一种极片清洁净化装置及方法

权利要求书

1.一种极片清洁净化装置，包括开设有进料口(1)和出料口(8)的净化仓，其特征在于，所述净化仓顶部靠近进料口(1)和出料口(8)的位置均设置有隔气帘(2)，所述净化仓内部位于所述隔气帘(2)的下方设置有振动床组件，待清洗的极片从进料口(1)加入到振动床组件上并经过隔气帘(2)与振动床组件的间隙向前运动，所述净化仓的顶部位于两个隔气帘(2)之间还设置有用于清洗极片的清洗炬等离子清洗炬组件。

2.根据权利要求1所述的一种极片清洁净化装置，其特征在于，所述振动床组件包括一级振动床(3)、二级振动床(7)以及用于驱动一级振动床(3)和二级振动床(7)振动的振动电机(10)，所述一级振动床(3)和二级振动床(7)首尾连接且具有高度差。

3.根据权利要求2所述的一种极片清洁净化装置，其特征在于，所述等离子清洗炬组件包括一级清洗炬(4)和二级清洗炬(6)，且所述一级清洗炬(4)位于所述一级振动床(3)的上方，所述二级清洗炬(6)位于所述二级振动床(7)的上方。

4.根据权利要求3所述的一种极片清洁净化装置，其特征在于，所述一级清洗炬(4)和二级清洗炬(6)均由多个低温等离子炬紧密排列呈一行组成。

5.根据权利要求1所述的一种极片清洁净化装置，其特征在于，所述净化仓的下方开设有进气口(9)，所述净化仓的上方开设有排气口(5)，空气流从进气口(9)进入并带动等离子清洗产生的含有锂盐微粉的气体从排气口(5)排出。

6.根据权利要求1所述的一种极片清洁净化装置，其特征在于，所述净化仓的下方设置有弹性支撑(11)。

7.一种极片清洁净化方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤100.将待清洗的极片从进料口加入到净化仓内部的振动床组件上；

步骤200.在振动床组件的振动作用下，极片经过隔气帘和振动床组件之间的间隙向前运动并到达清洗炬的下方，清洗炬连续释放出一排大量的等离子体，对经过清洗炬下方极片表面沾附的锂盐进行等离子气化干法清洗；

步骤300.经过低温等离子体清洗的极片沿振动床组件与隔气帘的间隙从料口排出，进入下个工序。

8.根据权利要求7所述的一种极片清洁净化方法，其特征在于，在步骤200中，极片在振动床组件上的具体运动过程为：

步骤201.在振动电机的作用下，极片首先经过隔气帘和一级振动床之间的间隙，到达一级清洗炬的位置下方；

步骤202.一级清洗炬对其下方的极片表面进行等离子气化干法清洗，经过一级清洁干净的极片继续向前运动，到达与二级振动床的连接位置；

步骤203.一级振动床和二级振动床的高度差作用使极片在落到二级振动床的床面时完成了翻面动作；

步骤204.完成翻面的极片在二级清洗炬的下方进行二次清洗。

9.根据权利要求7所述的一种极片清洁净化方法，其特征在于，在整个低温等离子体清洗过程中，进气口不断进入空气流，带动等离子清洗产生的含有锂盐微粉的气体从排气口排出。