[发明专利]显示装置及其显示基板、显示基板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201910498035.5 申请日: 2019-06-10
公开(公告)号: CN110767721B 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 梁超;吴昊;迟帅杰;唐静;楼均辉;陶国胜;范俊 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京曼威知识产权代理有限公司 11709 代理人: 方志炜
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 及其 显示 制作方法
【说明书】:

发明提供了一种显示装置及其显示基板,显示基板的制作方法,显示基板包括透光基底以及若干第一子像素;每一第一子像素包括第一电极、第一像素定义层、第一像素定义层的开口内的第一发光材料层以及第二电极;第一像素定义层上具有隔离柱,用于隔断相邻第一子像素的第二电极;隔离柱呈T字形,T字形隔离柱为一体成型结构。由于隔断部较长,因而T字形隔离柱对蒸镀的导电材料层自动隔断效果佳;T字形隔离柱一体成型、为单层结构,隔断部与支撑部材料相同,且在同一工序中实现图形化,因而隔断部与支撑部粘接效果佳,无脱离分层现象、性能可靠。

技术领域

本发明涉及显示设备技术领域,尤其涉及一种显示装置及其显示基板、显示基板的制作方法。

背景技术

随着显示装置的快速发展,用户对屏幕占比的要求越来越高,由于屏幕上方需要安装摄像头、传感器、听筒等元件,因此现有技术中屏幕上方通常会预留一部分区域用于安装上述元件,例如苹果手机iphoneX的前刘海区域,影响了屏幕的整体一致性,全面屏显示受到业界越来越多的关注。

发明内容

本发明的发明目的是提供一种用于全面屏的显示装置及其显示基板、显示基板的制作方法。

为实现上述目的,本发明的第一方面提供一种显示基板,包括透明显示区,所述透明显示区包括:透光基底以及位于所述透光基底上的若干第一子像素;每一所述第一子像素包括第一电极、所述第一电极上的第一像素定义层、所述第一像素定义层的开口内的第一发光材料层以及所述第一发光材料层上的第二电极;

其中,所述第一像素定义层上具有隔离柱,用于隔断相邻第一子像素的第二电极;所述隔离柱呈T字形,所述T字形隔离柱为一体成型结构。

可选地,所述第一子像素为PM驱动方式,所述第一电极为一行若干列,所述隔离柱为一行若干列;或所述第一电极为一列若干行,所述隔离柱为一列若干行。

优选地,所述T字形隔离柱包括支撑部与隔断部,所述隔断部包括隔断端头,所述隔断端头距所述支撑部的最小距离大于1μm,和/或所述支撑部的高度大于550nm。

可选地,所述支撑部的纵剖面呈矩形、正梯形或倒梯形。

可选地,所述T字形隔离柱的材料为无机透明材质或有机透明材质。

可选地,所述T字形隔离柱的材料为有机透明胶。

可选地,所述有机透明胶为光敏胶。

可选地,所述T字形隔离柱包括支撑部与隔断部,所述第一像素定义层上还具有第一光程补偿层,所述第一光程补偿层位于所述隔断部的下方且与所述T字形隔离柱在所述第一像素定义层的正投影不重叠;所述第一光程补偿层使所述第一光程补偿层所在的第一垂直入射路径与第一发光材料层所在的第二垂直入射路径之间的光程差ΔL1满足:(m-δ1)λ≤|ΔL1|≤(m+δ1)λ,λ为可见光波长,m为自然数;δ1为0~0.2之间的常数;和/或

所述第一像素定义层上还具有第二光程补偿层,所述第二光程补偿层位于所述隔断部的下方且处于所述隔断部在所述第一像素定义层的正投影内;所述第二光程补偿层使所述第二光程补偿层所在的第三垂直入射路径与第一发光材料层所在的第二垂直入射路径之间的光程差ΔL2满足:(n-δ2)λ≤|ΔL2|≤(n+δ2)λ,λ为可见光波长,n为自然数;δ2为0~0.2之间的常数;

优选地,所述第一光程补偿层的材料为二氧化硅或氮化硅;和/或所述第二光程补偿层的材料为二氧化硅或氮化硅;

优选地,所述第一光程补偿层的材料的折射率大于所述第二光程补偿层的材料的折射率;

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