[发明专利]一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法有效
申请号: | 201910498587.6 | 申请日: | 2019-06-10 |
公开(公告)号: | CN110182756B | 公开(公告)日: | 2023-02-21 |
发明(设计)人: | 徐杰;张广玉;祁红岩;李豫龙 | 申请(专利权)人: | 百色学院 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;H02N11/00 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 高媛 |
地址: | 533000 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 环节 可见光 光驱 马达 制备 方法 | ||
1.一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法,其特征在于:所述方法包括如下步骤:
步骤一:在水平设置的硅片(2)上滴加多个 PS球(1);
步骤二:在每个PS球(1)上均通过掠射角沉积的方法沉积一段Si体(3);
步骤三:在每段Si体(3)远离PS球(1)的一端面均蒸镀Au层(4);
步骤四:撤去硅片(2),即可获得光驱微纳马达(5)。
2.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法,其特征在于:所述多个 PS球(1)呈矩形阵列设置。
3.根据权利要求1或2所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法,其特征在于:每个所述 PS球(1)的直径均为500nm-40μm。
4.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法,其特征在于:所述掠射角的倾角为5°。
5.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法,其特征在于:每段所述Si体(3)的长度均为2-5μm。
6.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法,其特征在于:每个所述Au层(4)的厚度均为15nm-2μm。
7.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法,其特征在于:当所述光驱微纳马达(5)悬浮在去离子水或有机溶剂中时,若没有光照,则光驱微纳马达(5)只呈现布朗运动;若存在可见光光照,则光驱微纳马达(5)向PS球(1)运动。
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